グラフェン系材料の特性・基礎と

高機能化・応用への展開

■透明導電膜へ■　■電子機器・デバイス応用へ■　■バリア膜へ■　■新規応用探索へ■

■厚膜・多層グラフェン■　■垂直配向グラフェン■

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

★ グラフェン系材料の基礎と最新技術動向を学ぶ！
★ グラフェンの特徴や合成方法、CVDグラフェン特有の転写技術とは？
★ ドーピングや積層、複合化による高機能化技術、原子層の評価技術、応用展開、実用化課題や今後への期待とは。

セミナー趣旨

ナノ炭素材料の一つであるグラフェンは優れた物性を持つことから、電気電子・光・熱分野への応用が期待されている。ここ数年で、量産技術や高機能化、用途開発等において大きな進展がある。
グラフェンの特徴や合成方法、CVDグラフェン特有の転写技術を紹介する。さらに、ドーピングや積層、複合化による高機能化技術、原子層の評価技術を解説し、応用への展開を説明する。実用化への課題や今後への期待を述べる。

＜得られる知識・技術＞

• グラフェンのCVD合成技術・転写技術
• グラフェンの評価原理と技術
• グラフェンへのドーピング技術
• グラフェンの応用展開

担当講師

(国研)産業技術総合研究所 ナノ材料研究部門 研究グループ長　山田 貴壽　氏

【経歴】
1998年3月　東海大学大学院工学研究科博士前期課程電子工学専攻　修了
1998年4月　青山学院大学理工学部電気電子工学科　助手
2003年4月　東北大学多元物質科学研究所　助手
2004年1月　産業技術総合研究所　ダイヤモンド研究センター
2010年4月　同　ナノチューブ応用研究センター
2015年3月　同　ナノ材料研究部門
【専門】
電子材料、表面・界面物性、ダイヤモンド、グラフェン、窒化ホウ素

セミナープログラム（予定）

＜プログラム＞
１．グラフェンの特徴
1.1 電気的特性
1.2 光学的特性
1.3 熱的特性
1.4 バリア性

２．グラフェン形成・合成技術
2.1 機械剥離法
2.2 酸化グラフェンの還元法
2.3 熱CVD法
2.4 プラズマCVD法

３．CVDグラフェンの転写技術

４．グラフェンの評価技術開発

５．グラフェンの高機能化技術
5.1 ドーピング技術
5.2 積層化技術
5.3 加工技術

６．グラフェンの応用
6.1 透明導電膜
6.2 電子機器・デバイス応用
6.3 バリア膜
6.4 厚膜・多層グラフェンの応用例
6.5 垂直配向グラフェンの応用例
6.6 新規応用探索

７．グラフェン産業化への課題

８．まとめ

□質疑応答□

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2022/6/24（金）13:00～16:30

開催場所

Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能)

受講料

一般受講：本体40,000円＋税4,000円
E-Mail案内登録価格：本体38,000円＋税3,800円

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2名で44,000円 (2名ともE-mail案内登録必須／1名あたり定価半額22,000円)

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1名申込みの場合：受講料( 定価：35,200円／E-mail案内登録価格 33,440円 )

定価：本体32,000円＋税3,200円
E-mail案内登録価格：本体30,400円＋税3,040円

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配布資料

• PDFデータ（印刷可／編集は不可）
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備考

※資料付
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