EUVレジストの高感度化、感度測定とメタルレジストの反応機構【提携セミナー】

半導体デバイス製造 接合技術

EUVレジストの高感度化、感度測定とメタルレジストの反応機構【提携セミナー】

開催日時 2025/3/6(木)10:30~16:15
担当講師

工藤 宏人 氏
山川 進二 氏
山下 良之 氏

開催場所

Zoomによるオンライン受講

定員 30名
受講費 60,500円(税込)

★EUVレジスト特有の問題点や要求特性、注目を集めるメタルレジストの開発状況!

 

 

EUVレジストの高感度化、感度測定と

メタルレジストの反応機構

 

 

【提携セミナー】

主催:株式会社技術情報協会

 


 

講座内容

・フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、露光システムに対応したレジスト材料が開発されてきた。2017年より極端紫外線(EUV)露光システムが実用化されている。しかしながら、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の開発が必要とされ続けている。本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の合成方法について、基本的な合成方法から最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、EUV用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。
・EUVレジストは従来の紫外線領域までのレジストと違い、ショットノイズや2次電子の影響などEUV特有の特徴がある。そのため、紫外線や電子線による代替測定だけでなく、実際のEUV照射による感度測定が必要である。本講座では感度測定手法と、それによって何がわかるのかを解説する。また、EUVレジストは50 nm程度以下の薄膜での使用が基本となっており、EUV照射後に回収できるサンプルが少なく、溶液分析が困難である。固体状態での分析方法として、EUV照射時のアウトガス分析や、X線による吸収分光分析手法があり、それらも解説する。
・レジストの歴史歴背景、メタルレジストの重要性、メタルレジストの作製方法およびメタルレジストのEUVによる反応機構、メタルレジストの大気安定性を紹介する。メタルレジストの反応機構を明らかにする分析手法に関しても紹介する。

 

 

習得できる知識

・EUV用レジストシステムの今後の動向が理解できる
・EUV用レジスト材料の問題点について把握する。
・EUV用レジスト材料の分子設計方法について理解する。
・EUV用レジスト材料の開発の方向性について理解する。
・EUVレジストの感度測定方法
・EUVレジストのアウトガス分析手法
・EUVレジストのX線吸収分光分析手法
・メタルレジストがなぜ重要か
・メタルレジストの基本構造
・メタルレジストのEUV露光による反応機構
・メタルレジストの大気安定性

 

 

担当講師

関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 准教授 山川 進二 氏
(国研)物質・材料研究機構 電子・光機能材料研究センター 主幹研究員 山下 良之 氏

 

 

セミナープログラム(予定)

<10:30~12:00>
1.EUVレジスト材料の要求特性と高感度化技術

関西大学 工藤 宏人 氏

 

1.EUV用レジストシステム
1.1 ムーアの法則とEUV用レジストシステム
1.2 EUVレジストシステムの開発の動向
1.3 EUV用レジスト材料の開発の必要性について
1.4 EUV用レジスト材料に求められる特性

 

2.EUV用レジスト材料
2.1 ポジ型EUV用レジスト材料(化学増幅型EUV用レジスト材料)
2.2 ネガ型EUV用レジスト材料(非化学増幅型EUV用レジスト材料)
2.3 メタルEUV用レジスト材料

 

3.EUV用レジスト材料の開発例
3.1 高感度型EUVレジスト材料
3.2 EUV用レジスト材料の今後の課題

 

<13:00~14:30>
2.EUVレジストの現像特性評価と化学解析

兵庫県立大学 山川 進二 氏

 

1.分析におけるEUVレジストの特徴
1.1 EUVと2次電子
1.2 EUVレジストと膜厚

 

2.EUVレジストの現像特性評価
2.1 ポジ型レジスト
2.2 ネガ型レジスト
2.3 コントラストカーブからわかること
2.4 EUV干渉露光

 

3.EUVレジストの化学解析
3.1 EUV照射前後の分析
3.1.1 アウトガス分析
3.1.2 X線吸収分光分析
3.2 EUVレジストの化学組成分布評価

 

<14:45~16:15>
3.メタルレジストの特徴とEUV露光による反応メカニズム

(国研)物質・材料研究機構 山下 良之 氏

 

1.レジスト
1.1 レジストの歴史
1.2 レジストの歴史的背景
1.3 リソグラフィのスケーリング則
1.4 ムアーの法則以降のデバイス構造
1.5 メタルレジストの重要性

 

2.メタルレジスト
2.1 EUV光吸収率の元素依存性
2.2 メタルレジストの種類
2.3 メタルレジストの作製方法
2.4 メタルレジストの構造
2.5 メタルレジストのEUV露光後の構造
2.6 各社が開発したメタルレジスト

 

3.メタルレジストEUV露光による反応機構及び大気安定性の解析
3.1 XRDによるEUV露光による構造変化解明
3.2 光電子分光によるEUV露光による反応元素解明
3.3 放射光X線吸収分光法を用いてEUV露光による反応化学結合解明
3.4 メタルレジストの大気安定性解析

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2025/3/6(木)10:30~16:15

 

開催場所

Zoomによるオンライン受講

 

受講料

1名につき60,500円(消費税込・資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき55,000円(税込)〕

 

 

技術情報協会主催セミナー 受講にあたってのご案内

 

備考

資料は事前に紙で郵送いたします。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

お申込後はキャンセルできませんのでご注意ください。

※申し込み人数が開催人数に満たない場合など、状況により中止させていただくことがございます。

 

 

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