EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

《EUVリソグラフィーの基礎とプロセス最適化方法・評価方法》

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

受講可能な形式：【Live配信】のみ

EUVの基本事項とレジスト材料開発、評価・プロセス技術について解説
次世代EUVレジストであるメタルレジストの特徴と評価方法についても言及

セミナー趣旨

情報システム社会の発展は目覚ましく、パーソナルコンピュータは今や一人一台を所有する。最近では、スマートフォンが手のひらコンピューティングを可能にするなど、私たちの生活を劇的に変えている。また 、取り扱うデータ量も増大しており、ビッグデータと呼ばれる単一のデータ集合内で数十テラバイトから数ペタバイトの範囲のデータをやり取りする時代が到来している。そこに、IoT(Internet of Things) やIoE(Internet of Everything) と呼ばれる、すべての「モノ」がインターネットにつながることで、自動認識や自動制御、遠隔計測などを行うことが発展してきている。

これらの発展はメモリやCPU(中央演算処理装置 ) 等の半導体電子デバイスの技術革新によって支えられており、この電子デバイスの技術 革新は 半導体微細加工技術の進展によるものである。現在は、EUVリソグラフィー技術により、20nmレベルの微細加工が可能となっており、本講座では、このEUVリソグラフィー技術の概要とプロセス評価技術について解説する。

得られる知識

• EUVリソグラフィーの基礎知識
• EUVフォトプロセスの最適化方法の習得
• EUVフォトプロセスの評価方法の習得

受講対象

• リソグラフィー・レジスト研究者、中堅社員、若手社員で、EUV露光技術に興味のある方

担当講師

大阪公立大学 大学院 工学研究科 客員教授　関口 淳 氏

[プロフィール]

1983年3月、芝浦工業大学応用化学科卒業。1983年4月、日本ケミテック入社。分析研究所に勤務。1985年4月、住友GCA社に入社。レジスト塗布現像装置のプロセス開発に従事。その後、レジスト解析装置および形状シミュレータのシステム開発に従事。現在、リソテックジャパン㈱専務取締役。2019年4月～立命館大学客員教授、2020年4月～大阪府立大学客員教授、大阪市立大学客員教授、2022年4月～大阪公立大学客員教授。2000年、東京電機大学にて工学博士。応用物理学会会員。高分子学会会員。2016年、精密工学会技術賞。
専門は、フォトリソグラフィー、バイオミメティクス。論文多数。著書は、「感光性フォトレジスト材料の評価」「リソグラフィー技術・その40年」「ノボラックレジスト・材料とプロセスの最適化」（いずれもS&T出版）。講演多数。

セミナープログラム（予定）

１．EUVLの概要
1.1 EUVLの概要
1.2 EUVL用レジスト

２．アウトガス評価技術
2.1 EUVLレジストのアウトガス評価方法
2.2 EUVLレジストのアウトガス評価装置

３．EUVレジストの評価技術
3.1 EUV透過率測定
3.2 ナノパーティクル添加レジストの高感度化
3.3 屈折率nk測定
3.4 EUV2光束干渉露光

４．EUVメタルレジストの評価技術
4.1 メタルレジストの概要
4.2 EUVメタルレジストのアウトガス分析
4.3 EUVメタルレジストの問題点

５．EUVフォトレジストと電子線レジストの感度

□ 質疑応答 □

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024年5月29日（水）  13:00～16:00

開催場所

Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能)

受講料

一般受講：本体45,000円＋税4,500円
E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円

※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合：受講料( 定価：37,400円／E-mail案内登録価格 35,640円 )

定価：本体34,000円＋税3,400円
E-mail案内登録価格：本体32,400円＋税3,240円

※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。

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配布資料

• 製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
  　※セミナー資料は開催日の４～５日前にお申し込み時のご住所へ発送致します。
  ※間近でのお申込みの場合、セミナー資料の到着が開催日に間に合わないことがございます。

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備考

※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。
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