〇CMP技術の基本から、装置構成・スラリーなど装置の概要、

パワー半導体／シリコン半導体それぞれへのCMP技術の応用と事例まで。

CMP技術の基礎から最新動向・研究開発事例まで

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

本セミナーではCMPの基礎的な内容から、シリコン半導体やパワー半導体などの半導体デバイスの応用事例について解説します。ここではCMPにおける研磨部材に関する紹介のほか、半導体プロセスへの適用例についても解説します。そして、パワー半導体基板の高速研磨技術や低屈折率透明パッドを用いた研磨モニタリング手法など、これまで実施してきた研究事例についても紹介します。最後に、CMPの将来展望に関する意見についても述べます。

担当講師

九州工業大学　大学院情報工学研究院　知的システム工学研究系　教授　鈴木 恵友 氏

セミナープログラム（予定）

１．CMP技術が導入された経緯
1-1　CMP以前の段差緩和との関係
1-2　リソグラフィーとCMPスペックとの関係（考え方）
1-3　平坦化CMPの導入
1-4　ダマシン法におけるCMPの適用
1-5　研磨レート、均一性の考え方

２．CMP装置の概要
2-1　装置構成
2-2　工程管理とモニタリング手法の概念
2-3　スラリーについて
2-4　材料除去メカニズムに関する検討
2-5　ポリシングパッドの役割

３．パワー半導体におけるCMP技術について
3-1　基板製造プロセス概要
3-2　基板研磨法
3-3　研究事例１：ハイブリッド微粒子による高効率研磨技術
3-4　研究事例２：イオンインプラを用いた高効率研磨（導入編）

４．シリコン半導体のCMP技術について
4-1　フロントエンドCMPの適用例
4-2　Cu-CMPについて
4-3　パターン研磨における課題
4-4　研究事例３：インプリント技術を用いた透明パッドの作成
4-5　研究事例４：研磨中におけるナノ微粒子観察手法
4-6　研究事例５：研磨中における酸化膜残膜量の定量化

５．半導体技術とCMPの将来展望について

＜質疑応答＞

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024年6月14日（金）　13:00-17:00　＊途中、小休憩を挟みます。

開催場所

Zoomによるオンラインセミナー

受講料

【オンライン受講：見逃し視聴なし】　1名41,800円(税込、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

【オンライン受講：見逃し視聴あり】　1名47,300円(税込、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

オンライン配信のご案内

★　Zoomによるオンライン配信

については、こちらをご参照ください

備考

※配布資料等について

●配布資料はPDF等のデータで配布致します。ダウンロード方法等はメールでご案内致します。

• 配布資料に関するご案内は、開催1週前～前日を目安にご連絡致します。
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  （土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。）
• セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。

●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。（全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。）
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止致します。

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