半導体製造工程の基礎知識②［イオン注入～エッチング編］（eラーニング）

半導体プロセスを理解しようとすると、そもそも物質としての半導体とは何かから始まって、どんな機能を持った物を作るのか、どんな工場で作るのかなど、幅広い情報が必要になります。

そこで、「半導体製造工程の基礎知識」と題したこの講座では、全体を3部にわけて、プロセスで使われる装置に注目して説明していきます。

３部作の2作目となる本講座では、最初に半導体製造工程の基礎知識①［半導体の基礎と洗浄・乾燥編］で説明した、半導体プロセスの概要を再掲し、ここまでの知識を振り返ることもできます。プロセスの解説としては、前工程の中でも特にイオン注入、熱処理、リソグラフィー、エッチングを中心に取り上げます。プロセスフロー全体を意識しながら学習していただければ幸いです。

本講座の狙い

この講座を受講することで、以下の点を学ぶことができます。

• 半導体業界に属する会社に入社された皆さんや、半導体関連ビジネスに関わる方に、半導体の製造方法（半導体プロセス）の基礎知識を得て頂くこと

想定受講者

• 半導体業界、またはそれにまつわる業界への新卒採用者、他業界からの中途採用者
• 半導体製造にかかわる専門教育を受けたことがない、半導体業界に関わる間接部門担当者、半導体ビジネスにこれから関わる営業担当者
•  Tech e-L　半導体業界の基礎知識　の受講と同程度の知識を持った方

半導体プロセス

• 前工程の概要と流れ
• 後工程の概要と流れ

イオン注入装置

• イオン注入装置とは
• イオン注入装置の仕組み
• イオン注入装置の構成要素
• イオン注入装置の種類

熱処理装置

• 熱処理の目的
• ドーピングと熱処理
• バッチ式の熱処理装置
• 枚葉式の熱処理装置（RTA装置）
• シリサイド形成と熱処理

リソグラフィー

• リソグラフィ工程
• リソグラフィ装置
• 露光装置
• 露光装置の種類
• 微細化の進展
• 合わせ制度とミックス・アンド・マッチ
• コータ
• ディベロッパ
• イエロールーム
• アッシャー

エッチング

• エッチングとは
• ウェットエッチング、ドライエッチング
• 等方性エッチングと異方性エッチング
• ドライエッチングのメカニズム
• 異方性エッチングのメカニズム
• エッチング装置の構成
• エッチング装置の分類

※半導体製造工程の基礎知識③[成膜～後工程編]の講座内容はこちらをご参照ください。