<半導体製造において必須:プラズマプロセッシング>プラズマプロセスにおける基礎と半導体微細加工へのプラズマによるエッチングプロセス
2024/5/21(火) 10:30~16:30
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03-6206-4966
開催日時 | 【LIVE配信】2024/7/22(月) 10:30~16:30 , 【アーカイブ配信】7/26~8/2 (何度でも受講可能) |
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担当講師 | 浜口 智志 氏 |
開催場所 | 【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。 |
定員 | 30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。 |
受講費 | 非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円) 会員: 44,000円 (本体価格:40,000円) |
《反応性イオンエッチング、プラズマ支援原子層エッチング(PA-ALE)、
熱原子層エッチング(thermal ALE)など》
【提携セミナー】
主催:株式会社R&D支援センター
◆セミナー趣旨
本講座では、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説する。具体的には、ドライエッチングに用いられるプラズマ装置、装置内のプラズマの構造やダイナミクス、気相反応、および、反応性イオンエッチング(RIE)から、近年注目を集める原子層エッチング(ALE)にわたるドライエッチング技術に関して、プラズマ物質相互作用の物理機構から最新技術動向まで、詳しく紹介する。関連項目として、プラズマCVDと原子層堆積(ALD)プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション(DX)の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内容を目指す。
◆習得できる知識
◆受講対象
◆キーワード
半導体,ドライ,エッチング,プラズマ,ALD,ALE,原子層,入門,講座,研修,セミナー
大阪大学 工学研究科 マテリアル生産科学専攻
教授 理学博士・Ph.D. 浜口 智志 氏
【略歴】
1982年 東京大学理学部物理学科卒業
1987年 同大学院理学系研究科物理学専攻博士課程修了
1988年 ニューヨーク大学大学院数学科博士課程修了
1988年-1990年 テキサス大学物理学科核融合研究所・研究員
1990年-1998年 IBM ワトソン研究所・主任研究員
1998年-2004年 京都大学エネルギー科学研究科・助教授
2004年-現在 大阪大学工学研究科・教授
【学会活動等】
国際真空科学技術応用国際連合(IUVSTA)プラズマ科学技術分科会(PSTD)長(2019-2021)、Journal of Plasma Medicine 編集委員長(2019-現在)、プラズマ医療国際学会(IPMS)会長(2015-2016)、米国真空学会(AVS) プラズマ科学技術分科会(PSTD)分科会長(2014)等歴任: 米国物理学会(APS)フェロー、米国真空学会(AVS)フェロー、応用物理学会(JSAP)フェロー
1.背景
2.プラズマ科学の基礎
3.代表的なプラズマプロセス装置
a.容量結合型プラズマ(CCP)装置
b.誘導結合型プラズマ(ICP)装置
4.反応性イオンエッチング(RIE)の基礎
a.プラズマ表面相互作用
b.表面帯電効果
c.シリコン系材料エッチング反応機構
d.金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
e.高アスペクト比(HAR)エッチング概要
5.プラズマCVD概要:原子層堆積(ALD)の基礎として
6.ALDプロセスの概要:原子層エッチング(ALE)の逆過程として
a.熱ALD
b.プラズマ支援(PA-)ALD
7.ALEプロセスの概要と最新技術動向
a.PA-ALE
b.熱ALE:リガンド交換
c.熱ALE:金属錯体形成
8.半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション(DX)
9.まとめ
<質疑応答>
【LIVE配信】2024/7/22(月) 10:30~16:30
【アーカイブ配信】7/26~8/2 (何度でも受講可能)
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。
非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 44,000円 (本体価格:40,000円)
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