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コーティング膜および機能性材料の付着・密着性評価と剥離対策(セミナー)
2024/11/29(金)13:00-16:30
お問い合わせ
03-6206-4966
開催日時 | 未定 |
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担当講師 | 小島 啓安 氏 |
開催場所 | 未定 |
定員 | - |
受講費 | 未定 |
○基礎から最新技術動向、現場で直面しがちなトラブル対策や膜品質の向上策まで。
○経験豊富な講師による丁寧でわかりやすい解説、またオンサイト(対面)形式ならではの
ざっくばらんなQ&A(個別質問も可)を交えながら進行します。
《パルス電源・マグネトロン/カソード技術から、反応性スパッタなどの高速成膜技術まで》
【提携セミナー】
主催:株式会社情報機構
スパッタリングは、再現性がよく、大面積にも均一に成膜でき、低温においても密着性良く、成膜プロセスとして大きな広がりを見せている技術です。化合物膜中でも酸化物や窒化物の透明膜においては応用製品が多く、高速成膜によるコストダウンが大きなインパクトを与えています。高速成膜制御技術と低ダメージカソード技術の組み合わせにより、プラスチック基板を用いた軽くて薄いフレキシブル基板への成膜が容易にできるようになりました。
これらの技術的な解説に加えて、セミナーでは、コンサルタントの経験を元に、生産現場で直面している様々な製品、品質のトラブルや開発現場での課題等についても直接的に役立つような対策や改善案を見つけることができるように、関連したスパッタの基礎的事項についても分かりやすく解説します。
◆ 受講対象者:
◆ 必要な予備知識:
◆ 本セミナーで習得できること:
有限会社アーステック 代表取締役 / 名古屋大学 客員教授 小島 啓安 氏
1.スパッタリングの特徴
・表面処理と成膜法
・スパッタリングの原理
・蒸着膜とスパッタ膜の違い
・ロールコーターとインラインコーター
2.パルス電源
・アーキングの原理
・パルスの種類
・パルスと膜構造
・HIPIMS電源
3.マグネトロン技術
・アンバランスドマグネトロン
・磁力線分布
・対称磁場と非対称磁場
4.カソード技術
・ロータリーカソード
・デュアルカソード
・AC放電
・磁場リンク
・低ダメージカソード
5.高速成膜技術
・反応性スパッタ
・ヒステリシス曲線
・遷移領域制御
・プラズマエミッション制御
6.応用編
6.1 スパッタ膜応用製品例
6.2 スパッタリング膜の品質向上策・トラブルシューティング
・ターゲットの利用率を上げるには?
・アーキング(異常放電)を減らすには?
・密着性を上げるには?
・内部応力のメカニズムと低減策
・緻密な膜を作るには?
・均一な膜を作るための制御手法
・コストを下げるには?
など
7.質問コーナー
できるだけ時間をとって、現状困っていることや現象でわからないことなどがありましたら、丁寧に解説するようにしたいと思います。
・現場で直面しているトラブルでの質問
・著書「現場のスパッタリング薄膜Q&A」の内容への質問
など、自由に質問してください。事前に連絡頂いても結構です。
未定
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