・EUVリソグラフィーの露光・光源技術を解説！

・半導体は「産業のコメ」から「産業のブレイン」へ

・高性能化・省エネ化を急ぐ

EUV光源技術の研究開発・高効率化

≪次世代半導体リソグラフィーに向けて≫

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

AI, IoT, EV，次世代ディスプレイ，スマートシティー，省エネなどSDGsを意識した活動が盛んです．しかし，物資不足で，いまや「半導体」という言葉を「半導体不足」という言葉とともに聞かない日はありません．「産業のコメ」と呼ばれた半導体素子は「産業のブレイン」と言われるまでになりました．EUVリソグラフィーが登場し，半導体素子の高性能化・省エネ化が加速しています．

本講座では，EUVリソグラフィーの露光と光源について平易にお話する予定です．

◆受講後、習得できること

• EUVの基礎知識・特徴
• EUV光源技術：仕組み・原理
• EUV光源の高効率化の研究
• 次世代半導体リソグラフィーへの応用研究

◆受講対象者

• EUV光について学習したい方
• 半導体リソグラフィーへの応用を検討している方　等

担当講師

宇都宮大学 工学部 基盤工学科
情報電子オプティクスコース　コース長　教授 博士（工学）　東口 武史 先生

宮崎大学助手，宇都宮大学助教，准教授を経て，教授．現在，工学部基盤工学科情報電子オプティクスコース長 （2023年度）．
これまで，米国ブルックヘブン国立研究所，英国オックスフォード大学， アイルランド国立大学ダブリン校，チェコ科学アカデミー物理学研究所で客員教授，客員研究員．
高繰り返しレーザー，EUV光源，光計測，医用生体工学などの研究に従事している．

セミナープログラム（予定）

1．EUVリソグラフィーとは
1.1 半導体素子の回路線幅の微細化と高集積化
～最近の動向を概説～
1.2 露光用光源とは

2．EUV光源の原理と各種光源の機構
2.1 EUV光源の原理
2.2 各種EUV光源

3．レーザー生成プラズマEUV光源
3.1 光源の物理と技術
3.2 装置構成

4．Beyond EUV (BEUV) 光源
4.1 beyond EUV (BEUV) 光源とは？
4.2 BEUV光源の現状と課題

5．まとめ

6．今後の展開

＜質疑応答＞

※口頭で質問したい方へは、その際にマイク使用を許可します
※「Q＆A」への質問コメント投稿も、遠慮なくお願いします。

公開セミナーの次回開催予定

開催日

未定

開催場所

未定

受講料

未定

●録音・録画行為は固くお断り致します。

オンライン配信のご案内

★　Zoomによるオンライン配信

については、こちらをご参照ください

備考

※配布資料・講師への質問等について

●配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
（開催1週前～前日までには送付致します）。
＊準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
（土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。）

●当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
（全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。）
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり
無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。

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