ナノインプリントが基礎から学べる半日速習セミナー！

半導体、AR/MRグラス等への応用状況、量産化について概説します。

ナノインプリントの基礎と実用化

《基礎開発から量産まで》

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

ナノインプリント技術は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。そのため高付加価値の製品をリーゾナブルな価格で作製することができる。本講義では、ナノインプリント技術の基礎から製品化例を紹介し、出口となりうる表面構造やそれに向けての材料やナノインプリントによる作り方を紹介する。また、近年活発化しているバイオミメティクス、半導体応用、およびAR/MRグラス等の状況も概説する。

◆受講後、習得できること

• ナノインプリントの基礎がわかる
• ナノインプリントの応用例がわかる
• ナノインプリントを生かした製品応用のヒントが得られる
• ナノインプリントの注意点がわかる
• ナノインプリントを使用すべきケースがわかる

◆受講対象者

材料メーカー、光学メーカー、デバイスメーカーの研究、開発担当者

担当講師

東京理科大学 先進工学部　電子システム工学科　教授 博士（工学）　谷口 淳 氏

＊ 希望者は講師との名刺交換が可能です

セミナープログラム（予定）

1．ナノインプリントの基礎
1) ナノインプリントの歴史
2) ナノインプリントの要素技術
3) ナノインプリントの各種方式
－ローラーナノインプリント
－リバーサルナノインプリント
－ソフトリソグラフィ（マイクロコンタクトプリント）
－ソフトリソグラフィの応用技術
4) ナノインプリントの位置づけ
－ナノインプリントと似た技術
－印刷技術との比較
－特許から見たナノインプリント
ー転写の問題点
ー類似技術との比較

2．ナノインプリント応用技術
1) ナノトランスファープロセス
2) 金属パターン転写
3) レプリカモールド
4) ロールナノインプリント

3．バイオミメティクスと反射防止構造
1) バイオミメティクスとは
2) 反射防止構造（モスアイ構造）
3) モスアイ構造の作製方法
4) モスアイ構造の転写方法
5) モスアイ構造の応用例

4．将来展望
1) 半導体
ーナノインプリントリソグラフィの現時点での性能
2) AR/MR グラス
ーAR用UVナノインプリント樹脂の開発動向

5．まとめ
1) 出口の作り方
2) 量産における注意点

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024年7月19日（金）　12:30-16:30 ※途中、小休憩を挟みます。

開催場所

【会場受講】[東京・大井町]きゅりあん5階第3講習室

受講料

1名41,800円(税込、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

備考

●録音・撮影行為は固くお断り致します。
●講義中の携帯電話の使用はご遠慮下さい。
●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方の迷惑となる場合がありますので、極力お控え下さい。
　　場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承下さい。
　　＊ＰＣ実習講座を除きます。

お申し込み方法

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