タグ: 真空装置

表面処理

プリカーサーとは？ALD・ALEプロセスを支える供給ユニット設計のポイント

半導体の微細化と三次元構造化が進む中で、製造プロセスにおける成膜やエッチングの精度は製品性能に大きく影響する要素です。特にALDプロセス（原子層堆積：Atomic Layer Deposition）やALE …

そうだったんだ技術者用語

チャンバーとは何か？分野・用途に応じた役割と技術概要を解説

「チャンバー」（chamber）とは、一般的に「小さな部屋」「隔離された空間」などといった意味の言葉であり、幅広い技術分野で使われている用語です。チャンバーは目立たない存在であることが多いですが、適用される …

表面処理

真空蒸着・スパッタリング・イオンプレーティングの違いがわかる！原理/装置/特徴を比較解説

今回は、半導体の製造現場などで広く使用されている成膜方法である「真空蒸着」「スパッタリング」「イオンプレーティング」について、各技術の原理・仕組み・装置構成などを説明します。 どれも似たような技術であるため …

３分でわかる技術のキホン

３分でわかる 真空蒸着の基礎知識(原理/装置構成/プロセスの概要など)

当連載の「３分でわかる技術の超キホン 成膜技術”PVD”とは？ CVDとの違いは？」の回で、物理気相成長法（PVD）についてご説明しました。真空蒸着はPVD法の一つです。 今回は、その真空蒸着（真空蒸着法） …

生産技術・設備技術

真空装置内の異物対策を解説｜微細ダスト(パーティクル)の発生原因と運用の注意点

微細なダストが半導体等のデバイスの特性に影響を与える場合は、特にこれらを「パーティクル」（微粒子）と呼び、欠陥の一因とされます。 本記事では、真空装置内の微細ダスト発生の原因とその対策について取り上げます。 …

生産技術・設備技術

真空装置の熱源と熱対策を総整理！装置内部の部材・部品を熱ダメージから守るには？

真空装置に関する前回の記事では、真空装置内の部材に生じる「腐食」の原因と対策について紹介しました。その「腐食」とともに問題になるのが、熱によるダメージの対策になります。 今回は、真空装置内の部材・部品（機械 …

生産技術・設備技術

真空装置内における腐食の原因と腐食対策《材料別解説》

真空を利用した真空装置において、避けて通ることのできない「腐食」の原因と対策について紹介します。 １．真空装置に用いる機械要素・部材はなぜ腐食するのか 半導体前工程などに多用される「真空装置」には多種多様な …

生産技術・設備技術

《真空技術の基礎》真空環境の5つの特徴がもたらす優位性と注意点

半導体製造の前工程などで基本技術となっている「真空」に関わる技術のTIPSを紹介します。 今回は、一般大気環境と真空環境下におけるふるまいの違いを取り上げます。 １．真空環境の特徴とは？ 真空環境には大まか …

表面処理

【半導体製造プロセス入門】PVD装置(スパッタリング装置)の要点解説 [成膜装置の基本③]

今回は、成膜装置のうち、気相成長装置としてPVD（物理的気相成長）装置について解説します。 （※PVDの基礎知識は「３分でわかる 成膜技術”PVD”とは？CVDとの違いは？」をご参照ください）   …

早わかりポンプ

【早わかりポンプ】真空ポンプの基礎知識と分類・種類

当連載では、これまでにポンプをテーマとして18回にわたって色々と解説してきました。 その18回の内容はすべて「ターボ形ポンプ」に関する知識が中心です。 連載第1回「ポンプの基本原理と分類」では、ポンプの分類 …