UV硬化の基礎と硬化不良対策および影部の硬化

≪硬化機構の基礎知識や光開始剤の選定方法、硬化不良対策の最新トピックスを解説≫

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

受講可能な形式：【会場受講】のみ

光硬化反応・硬化機構における基礎をはじめ、光開始剤（光ラジカル重合開始剤・光酸発生剤・光塩基発生剤・アミン発生系開始剤・高感度な光強塩基発生剤・光潜在性チオール）の特性と応用、各種光開始剤の選定方法までを解説します。
また、硬化不良対策として酸増殖剤や塩基増殖剤の開発事例とその応用、連鎖硬化剤を利用したUV硬化、影部分のUV硬化技術などを紹介します。
ぜひこの機会にお役立てください。

セミナー趣旨

光硬化技術にとって光開始剤は極めて重要なアイテムである。これらの性能によってＵＶ硬化材料の硬化特性が決まってしまうといっても過言ではない。さらに、光開始剤と光源とのマッチングも重要である。本セミナーではUV硬化反応の基礎について、光開始剤の特性と硬化機構の両面から解説する。

最新のトピックスとして、演者らが開発したノンアウトガスタイプの光塩基発生剤、高感度な光強塩基発生剤、および光潜在性チオールとその応用についても紹介したい。さらに、酸・塩基増殖剤や連鎖硬化剤を利用した“光化学＋熱化学反応”によるデュアル硬化について解説し、影部分の硬化不良対策についてもわかりやすく解説する。

【得られる知識】

• ＵＶ硬化反応の基礎知識
• ＵＶ硬化の最新情報
• 開始剤の選び方
• 硬化不良対策
• 影部のUV硬化

【受講対象】

ＵＶ硬化の基礎、光開始剤について学びたい人であれば誰でも参加可能です。
有機化学、高分子化学の基礎を知っていることが望ましいが、必須ではない。

【キーワード】

光開始剤の基礎、光源と光開始剤、高感度な光強塩基発生剤、ラジカルUV硬化、アニオンUV硬化、カチオンUV硬化、光潜在性チオール、塩基増殖剤、酸増殖剤、連鎖硬化剤、硬化不良対策、レドックス開始重合

担当講師

東京理科大学　創域理工学部　先端化学科　教授　博士(工学)　有光 晃二　氏

【専門】光機能性有機高分子材料
【略歴】
１９９７年７月　東京工業大学大学院　総合理工学研究科　電子化学専攻　博士課程中退
同年７月　東京工業大学　資源化学研究所　光機能化学部門　教務職員
２００１年３月　博士（工学）　東京工業大学
同年４月　東京理科大学　理工学部　工業化学科　助手
２００６年４月　マサチューセッツ工科大学 在外研究員［平成１９年３月まで］
２００７年４月　東京理科大学　理工学部　工業化学科　講師
２０１０年４月　東京理科大学　理工学部　工業化学科　准教授
２０１７年４月　東京理科大学　理工学部　先端化学科　教授
（２０１７年４月から学科名が工業化学科から先端化学科に改称、
２０２４年４月から学部名が理工学部から創域理工学部に改称）現在に至る

【関連学会等での活動】
一般社団法人ラドテック研究会　会長

有光研究室(有機材料化学&光機能化学)　東京理科大学　創域理工学部　先端化学科 (tus.ac.jp)

セミナープログラム（予定）

１．UV硬化の基礎
1.1 UV硬化に必要な光化学の基礎
1.2 光源の選択
1.3 UV硬化と現状と課題

２．光開始剤
2.1 光ラジカル重合開始剤の特性とUV硬化への応用
2.2 光酸発生剤の特性とUV硬化への応用
2.3 光塩基発生剤の特性とUV硬化への応用
2.3.1 第1級、第2級アミン発生系
2.3.2 第3級アミン、強塩基発生系
2.4 光潜在性チオールの特性とUV硬化への応用

３．カスケード式化学を利用した影部分のUV硬化
3.1 酸増殖剤の開発と応用
3.2 塩基増殖剤の開発と応用
3.3 連鎖硬化剤を利用したUV硬化
3.4 フロンタル重合系の構築
3.5 光塩基発生剤を利用したレドックス開始重合系

□質疑応答□

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024/10/29（火）13:00～16:30

開催場所

【会場受講】東京・品川区大井町 きゅりあん 5F　第3講習室

受講料

一般受講：本体45,000円＋税4,500円
E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で49,500円 (2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額の24,750円)

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配布資料

製本テキスト(会場にて直接お渡しします)

備考

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中の会場でのパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

お申し込み方法

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