真空の基礎からスパッタリング装置における重要な要素を学ぶ！

膜の密着性や膜質に影響する様々なパラメータ、希望の膜を得るための方法、

日常の運用においてチェックしておくべき事項、トラブルが生じた際の対処方法を解説します！

薄膜形成における

スパッタリングの基礎とトラブル対策

◆受講者限定で見逃し配信（1週間：何度でも視聴可）を予定しております。

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆セミナー趣旨

スパッタリング装置は真空成膜装置のなかでも最も工業用に広く普及している装置です。これは、危険性の高いガスを用いるCVDのように除害設備が必要なく、比較的安価であることと、蒸着装置よりも品質の高い膜が成膜できる事に起因しています。

しかしながら、真空およびスパッタリング装置に対する知識が不足していると、膜質の悪化や成膜トラブルに対して正しい対応ができません。

本セミナーでは、まず真空の基礎から成膜装置における重要な要素を解説していきます。続いて、膜の密着性や膜質に影響する様々なパラメータを解説し、希望の膜を得るための方法について解説します。最後に、トラブルを防ぐために日常の運用においてチェックしておくべき事項を解説し、トラブルが生じた際の対処方法についても解説します。

◆習得できる知識

• 真空装置に関する基礎知識が身につく
• スパッタリング装置の基本知識が身につき具体的運用が出来る

◆受講対象

これからスパッタリング装置に携わる方もしくは携わって数年の方

◆必要な前提知識

高校物理・化学の基礎

◆キーワード

スパッタリング,真空,成膜,プラズマ,密着性,セミナー,講演,研修

担当講師

アステラテック株式会社 代表取締役　三好 幸三 氏

【ご専門】
真空技術、半導体プロセス技術、太陽電池

日本表面真空学会認定の真空主任技術者

セミナープログラム（予定）

１． スパッタリング技術者のための真空の基礎
1.1 気体分子運動論
1.2 真空と表面

２． 真空装置の基礎
2.1 真空の作り方
2.2 真空の測り方
2.3 成膜装置の基本構成

３． プラズマの基礎
3.1 プラズマとは何か
3.2 プラズマの作り方

４． 真空成膜装置
4.1 真空成膜装置の種類
4.2 スパッタリング装置の構成・仕組み
（1）なぜマグネトロンスパッタか？
（2）スパッタリング装置のメリット・デメリット

５． スパッタリング装置における成膜条件だしのポイント
5.1 膜質向上のための取り組み
（1）膜質と生産性のトレードオフ
（2）基板加熱とイオンアシスト
5.2 密着性向上のための取り組み
（1）密着性は何で決まるか？
（2）密着性改善の方法1：前処理条件から
（3）密着性改善の方法2：成膜条件から
（4）密着性改善の方法3：膜構成から

６． 現場のトラブルシューティング
6.1 日々の管理項目
6.2 リークトラブルの原因と対応策
6.3 放電トラブルの原因と対応策
6.4 何が壊れやすいか？：必要なバックアップ

【質疑応答】

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2023年09月11日（月）13:00～17:00

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

非会員： 49,500円 （本体価格：45,000円）
会員： 46,200円 （本体価格：42,000円）

会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円（税込）から

• 1名で申込の場合、46,200円（税込）へ割引になります。
• 2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、
  49,500円（1名当たり 24,750円）（税込）です。

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備考

• セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
  無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

◆特典

受講者限定で見逃し配信（1週間：何度でも視聴可）を予定しております。

お申し込み方法

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