半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

セミナー修了後、受講者のみご覧いただける期間限定のアーカイブ配信を予定しております。

◆セミナー趣旨

半導体デバイスは現在の科学および産業に多大な貢献をしています。また、その高機能化の進歩は極めて速く、多くの基盤技術が創生されています。その中でも、半導体基板のクリーン化技術は、製品歩留まりに直結しているため、重要なキーテクノロジーの１つとして位置づけられています。本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説します。特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説します。本講座を通じて、基礎から学んでいただけます。また、受講者が抱えている日頃の研究開発および現場トラブルに関する相談にも個別に対応します。

◆習得できる知識

半導体デバイス製造におけるクリーン化技術の基礎、および製品の歩留まり向上や品質改善および技術開発における基盤技術を習得できます。また、製造プロセスや装置機構により、クリーン化を促進できるとともに、各種ノウハウを習得できます。

◆受講対象

電子デバイスおよびクリーン化に関わる技術者

◆キーワード

半導体,洗浄,RCA洗浄,欠陥,微粒子,クリーン化,クリーンルーム,WEBセミナー

担当講師

国立大学法人　長岡技術科学大学　名誉教授
アドヒージョン（株）　代表取締役社長　博士（工学）　河合 晃　氏

【略歴】
三菱電機（株）LSI研究所での１０年間の試作開発、量産移管、および製造管理を経て、現在、大学教員として基礎応用研究と産学連携に従事している。専門は、電子デバイス、実装技術、微細加工、塗膜コーティング、クリーン化技術、接着など多分野に及ぶ。製品歩留まり、ライン管理、信頼性、安全、クリーンルーム管理等にも実績を有する。受賞８件、著書３０冊、論文発表１６０報以上、国際学会発表１２０件以降、国内学会２１０件以上、特許多数の実績がある。また、NEDO技術委員、公的助成審査委員、各種論文査読委員を歴任している。共同研究および技術コンサルティング実績200社以上。

セミナープログラム（予定）

１．洗浄技術と半導体デバイス
1-1　基本洗浄方式（ウェット、ドライ、物理除去）
1-2　歩留まりと欠陥（致命欠陥とは）

２．洗浄の基本メカニズム（付着・脱離）
2-1　相互作用因子（粒子間の引力とは）
2-2　ファイン粒子の性質（JKR理論、DMT理論、Hertz理論、毛管凝縮）
2-3　DPAT技術（AFMによる剥離力の直接測定）
2-4　液体ラプラス力（液膜による凝集力）
2-5　溶液中の粒子付着と除去（DLVO理論）
2-6　ゼータ電位と分散凝集制御（溶液中の帯電）
2-7　表面エネルギーと洗浄（分散、極性成分からの付着性解析）
2-8　界面への洗浄液の浸透機構（拡張濡れエネルギー、Sモデル）

３．有効な付着物の除去方法とは？（徹底的に除去するには）
3-1　RCA洗浄（重金属除去、酸化還元電位）
3-2　腐食溶解（ポテンシャル－ｐH電位図）
3-3　マイクロ気泡の脱離（低表面張力液体による除去）
3-4　超音波洗浄（異物除去メカニズム）
3-5　乾燥痕対策（ＩＰＡ・スピン乾燥）
3-6　プラズマ処理（有機物分解と物理スパッタ）
3-7　ブラシスクラバー（機械的除去）

４．効率的なクリーン化技術とは（クリーンルーム運営）
4-1　花粉、PM2.5、バクテリア、マイクロビーズ（身近な異物）
4-2　フィルター技術（フィルタリングの基礎）
4-3　単分子有機汚染（保管中のクリーンネスとは）
4-4　パーティクルカウンター（気中浮遊粒子）
4-5　動線のコントロール（安全性と作業の効率化）

５．質疑応答
（日頃の疑問、トラブル、解析・技術開発相談に個別に応じます）

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024年02月09日（金） 13:00～16:30

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

非会員：  49,500円 （本体価格：45,000円）
会員：  46,200円 （本体価格：42,000円）

会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円（税込）から
★1名で申込の場合、46,200円（税込）へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円（2人目無料）です。
★3名以上同時申込は1名につき24,750円（税込）です。

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備考

資料付【PDFにて配布いたします】

• セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
  無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

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