高感度化フォトレジスト材料の合成・設計・開発技術

≪分子設計・合成方法と最新型EUV用レジスト材料の研究動向≫

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ

EUV用レジスト材料など更なる高感度化が求められる新規レジスト材料の開発
メタルレジスト、化学増幅型レジスト、非化学増幅型レジスト材料、、、、
EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の合成・設計・開発
高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説

セミナー趣旨

フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、露光システムに対応したレジスト材料が開発されてきた。現在、極端紫外線（EUV）露光システムが実用段階として運用されようとしている。しかしながら、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料が開発されていない。

本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の合成方法について、基本的な合成方法から最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、EUV用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。

得られる知識

• レジスト材料の合成方法、評価方法、開発方法

受講対象

• レジスト材料の開発に関する研究にご興味がある方

担当講師

関西大学　化学生命工学部　化学・物質工学科　教授　博士（工学） 工藤 宏人　氏

セミナープログラム（予定）

1．レジスト材料
1.1 原理
1.2 合成例
1.3 最新の化学増幅型

2．ポジ型レジスト材料
2.1 材料的な特性
2.2 主な応用・用途

3．ネガ型レジスト材料
3.1 材料的な特性
3.2 主な応用・用途

4．高分子レジスト材料と低分子レジスト
4.1 材料的な特性
4.2 主な応用・用途

5．EUV用レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
5.1 レジスト材料の評価項目，評価手法について
5.2 レジスト材料の評価方法と開発例

6．最新型EUV用レジスト材料
6.1 メタルレジスト
6.2 化学増幅型レジストと非化学増幅型レジスト材料

7. 質疑応答

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【ライブ配信】 2024年12月17日（火） 10:30～16:30
【アーカイブ配信】 2025年1月7日（火） まで受付(視聴期間：1/7～1/21）

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

一般受講：本体50,000円＋税5,000円
E-Mail案内登録価格：本体47,500円＋税4,750円

2名で55,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須​／１名あたり定価半額の27,500円)

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合：受講料 41,800円(E-Mail案内登録価格 39,820円 )

定価：本体38,000円＋税3,800円
E-Mail案内登録価格：本体36,200円＋税3,620円

※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。

※お申込みフォームで【テレワーク応援キャンペーン】を選択のうえお申込みください。
※他の割引は併用できません。

★【S&T会員登録】と【E-Mail案内登録】の詳細についてはこちらをご参照ください。

※E-Mail案内登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「E-Mail案内登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みからE-mail案内登録価格が適用されます。

配布資料

製本資料（開催日の4、5日前に発送予定)）
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、
　開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。

オンライン配信のご案内

※【Live配信（zoom使用）対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

※【WEBセミナー：アーカイブ受講対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

備考

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

★【ライブ配信】、【アーカイブ配信】のどちらかご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。