高感度化フォトレジスト材料の合成・設計・開発技術【提携セミナー】

リソグラフィー技術_フォトレジストの評価方法

高感度化フォトレジスト材料の合成・設計・開発技術【提携セミナー】

開催日時 【ライブ配信】 2025/12/22(月) 10:30~16:30 , 【アーカイブ配信】 2026/1/14(水) まで受付(視聴期間:1/14~1/29)
担当講師

工藤 宏人 氏

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

定員 -
受講費 ※12/22フォトレジストのみの場合
通常申込:本体50,000円+税5,000円
E-Mail案内登録価格:本体47,500円+税4,750円

高感度化フォトレジスト材料の合成・設計・開発技術

 

≪分子設計・合成方法と最新型EUV用レジスト材料の研究動向≫

 

【提携セミナー】

主催:サイエンス&テクノロジー株式会社

 


受講可能な形式:【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ

 

■まとめて受講がおトクな “セット申込み”があります!■
「12/18EUVリソグラフィー」と「12/22フォトレジスト」2セミナーをセット。

 

●「12/22フォトレジスト」と「12/23次世代リソグラフィ」2セミナーをセット。

 

「12/18EUVリソグラフィー」と「12/22フォトレジスト」と「12/23次世代リソグラフィ」3セミナーをセット。

 

EUV用レジスト材料など更なる高感度化が求められる新規レジスト材料の開発の為に
メタルレジスト、化学増幅型レジスト、非化学増幅型レジスト材料、、、、
EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の合成・設計・開発
高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説
露光システムに対応したレジスト材料の分子設計指針、最新のEUV用レジスト材料の開発動向、次世代の分子設計指針

 

セミナー趣旨

フォトレジスト材料は、ポジ型、ネガ型、化学増幅型、非化学増幅型などとして分類され、i線、G線、KrF、ArF、EB、およびEUV露光用レジスト材料として活用されている。高感度化をすること、すなわち、露光量を少なくさせることは、短時間でパタンニング処理を可能にし、生産性を上げることを可能にする。しかし、それだけではなく、レジストパタンの解像性を上昇させ、レジストパタンのラフネスの改善にも大きく貢献することになる。次世代レジストシステムとして、EUV露光システムが実用化段階に入っているが、最も研究開発が必要とされているのは、EUV用のレジスト材料の開発である。現在のところ、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるとされるレジスト材料は未だない。新しいレジスト材料の開発は、様々なレジスト特性を評価検討する必要があるが、まずは少ない露光量でパタンニングが可能であること、すなわち高感度であることが最優先である。実際、EUV用レジスト材料においても、より高感度なレジスト材料の開発が急務とされている。

 

本セミナーにおいて、露光システムに対応したレジスト材料の分子設計指針から、最新のEUV用レジスト材料の開発動向から、次世代の分子設計指針まで解説する。

 

得られる知識

  • フォトレジストシステム、レジスト材料の分子設計、レジスト材料の高感度化

 

受講対象

  • フォトレジスト関係の開発研究者

 

キーワード

フォトレジスト,高感度化レジスト,化学増幅型レジスト,非化学増幅型レジスト,メタルレジスト,KrF,ArF,EUV

 

担当講師

関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 博士(工学) 工藤 宏人 氏

 

セミナープログラム(予定)

1.レジスト材料
1.1 原理
1.2 レジスト材料の例
1.3化学増幅型レジスト

 

2.ポジ型レジスト材料
2.1 材料的な特性
2.2 主な応用・用途

 

3.ネガ型レジスト材料
3.1 材料的な特性
3.2 主な応用・用途

 

4.高分子レジスト材料と低分子レジスト
4.1 材料的な特性
4.2 主な応用・用途

 

5.レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
5.1 レジスト材料の評価項目,評価手法について
5.2 レジスト材料の評価方法と開発例

 

6.最新型レジスト材料
6.1 メタルレジスト
6.2 EB,EUV用レジスト材料

 

質疑応答

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【ライブ配信】 2025年12月22日(月) 10:30~16:30
【アーカイブ配信】 2026年1月14日(水) まで受付(視聴期間:1/14~1/29)

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

 

受講料

※12/22フォトレジストのみ受講場合

定価:本体50,000円+税5,000円
E-Mail案内登録価格:本体47,500円+税4,750円

 

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で55,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須​/1名あたり定価半額の27,500円)

 

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合: 受講料 44,000円(E-Mail案内登録価格 42,020円 )

 

定価:本体40,000円+税4,000円
E-Mail案内登録価格:本体38,200円+税3,820円

 

※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。

※※お申込みフォームのメッセージ欄に【テレワーク応援キャンペーン希望】とご記載ください。
※他の割引は併用できません。


※「12/18:EUVリソグラフィー」と「12/22:フォトレジスト」2セミナーセット受講料

及び

※「12/22:フォトレジスト」と「12/23:次世代リソグラフィ」2セミナーセット受講料

定価:本体70,000円+税7,000円
E-Mail案内登録価格:本体66,500円+税6,650円

 

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で77,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須​/1名あたり定価半額の38,500円)
3名で115,500円 (2名ともE-Mail案内登録必須) ※4名以上も1名追加ごとに38,500円を加算

 

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合: 受講料 60,500円 (E-Mail案内登録価格 57,420円)

 

定価:本体55,000円+税5,500円、E-Mail案内登録価格:本体52,200円+税5,220円

 

※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。

※※お申込みフォームのメッセージ欄に【テレワーク応援キャンペーン希望】とご記載ください。
※他の割引は併用できません。


※「12/18:EUVリソグラフィー」と「12/22:フォトレジスト」と「12/23:次世代リソグラフィ」3セミナーセット受講料

定価:本体110,000円+税11,000円
E-Mail案内登録価格:本体104,500円+税10,450円

 

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料 
2名で121,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須​/1名あたり定価半額の60,500円)
3名で181,500円 (2名ともE-Mail案内登録必須) ※4名以上も1名追加ごとに60,500円を加算

 

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合: 受講料 99,000円 (E-Mail案内登録価格 94,050円)

 

定価:本体90,000円+税9,000円、E-Mail案内登録価格:本体85,500円+税8,550円

 

※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。

※※お申込みフォームのメッセージ欄に【テレワーク応援キャンペーン希望】とご記載ください。
※他の割引は併用できません。


 

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配布資料

製本資料(開催日または視聴開始日の4、5日前に発送予定)
※ライブ配信受講を開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、
 開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。

 

オンライン配信のご案内

※【Live配信(zoom使用)対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

※【WEBセミナー:アーカイブ受講対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

 

備考

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

★【ライブ配信】、【アーカイブ配信】のどちらかご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。

 

★セット申込をご希望の場合は、このセミナーと併せて受講するセミナー名(「12/18EUVリソグラフィー」「12/23次世代リソグラフィ」のいずれか、または両方)をメッセージ欄にご記載ください。

 

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