○半導体洗浄の原理や装置・薬液の種類などの基礎から、

次世代半導体の洗浄課題とそれに対応するための洗浄・乾燥技術のトレンドまで。

○基本から先端技術までを3時間で解説します！

半導体洗浄技術の基礎から

先端半導体向け洗浄・乾燥技術のトレンドまで

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

半導体製造において、品質/歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。

具体的には、半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明し、その後次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題に触れます。また、洗浄後は濡れたウエハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があるため、乾燥も重要なプロセスです。本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の２つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドをわかりやすく紹介します。

◆受講後、習得できること

• 半導体製造における洗浄の役割を基礎から理解できる
• 半導体洗浄に使用される装置や薬液種類や洗浄原理が理解できる
• 先端半導体に要求される洗浄技術の課題や最新の洗浄技術が理解できる
  など

◆受講対象者

本テーマに興味のある方なら、どなたでも受講可能です。

◆必要な予備知識など

この分野に興味のある方なら、特に予備知識は必要ありません。

担当講師

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
洗浄開発統轄部 開発戦略部　開発戦略課　プロセス戦略リーダー
岩畑 翔太 先生

2014～　株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
2018～2021　Imec(ベルギーの半導体研究機関) 駐在3年

セミナープログラム（予定）

１．なぜ半導体洗浄が必要か
1）基本的な半導体製造プロセス
2）半導体製造における洗浄の位置づけ
3）洗浄対象物

２．どのように半導体洗浄を行うか
1）洗浄装置の種類
2）洗浄薬液の種類
3）洗浄原理

３．洗浄の技術トレンド
1）半導体と洗浄の歴史
2）従来の洗浄技術
a）物理洗浄（スプレー）

４．乾燥の技術トレンド
1）半導体と乾燥の歴史
2）従来の乾燥技術
a）IPA乾燥
b）表面改質

５．次世代半導体の洗浄課題
1）半導体デバイスのトレンド
2）洗浄の技術的課題
3）洗浄装置に求められる機能

６．洗浄/乾燥の先端技術
1）最新の洗浄技術
a）固化洗浄
b）狭所洗浄（エッチング）
c）選択エッチング
2）最新の乾燥技術
a）昇華乾燥
b）構造観察手法

７．まとめ

＜質疑応答＞

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024年4月22日（月）　13:00-16:00　※途中、小休憩を挟みます。

開催場所

Zoomによるオンラインセミナー

受講料

1名36,300円(税込、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき25,300円

＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

オンライン配信のご案内

★　Zoomによるオンライン配信

については、こちらをご参照ください

備考

※配布資料等について

●配布資料はPDF等のデータで配布致します。ダウンロード方法等はメールでご案内致します。

• 配布資料に関するご案内は、開催1週前～前日を目安にご連絡致します。
• 準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
  （土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。）
• セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。

●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。（全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。）
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止致します。

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。