先進半導体パッケージの技術動向と三次元集積化プロセス開発の道程【提携セミナー】

半導体・電子部品実装 研究・開発 生産技術・品質保証 専門技術・ノウハウ
先進半導体パッケージの技術動向と三次元集積化プロセス開発の道程【提携セミナー】
開催日時 | 2025/9/26(金)10:30~16:30 |
---|---|
担当講師 | 江澤 弘和 氏 |
開催場所 | 【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。 |
定員 | - |
受講費 | 通常申込:55,000円 E-Mail案内登録価格:52,250円 |
先進半導体パッケージの技術動向と
三次元集積化プロセス開発の道程
先進パッケージ開発の経緯を整理
3次元集積化プロセス、Fan-Out型パッケージの基礎を再訪
今後の開発動向と市場動向も解説
【提携セミナー】
主催:サイエンス&テクノロジー株式会社
受講可能な形式:【Live配信】のみ
本セミナーでは、これまでの先進パッケージ開発の経緯を整理し、半導体デバイスチップの三次元集積化プロセス、Fan-Out型パッケージの基礎を再訪しながら、今後の開発動向と市場動向を展望します。
セミナー趣旨
14億人の人口を背景とする中国のAI産業市場の規模は2030年までに1兆元(約21兆円)に成長し(Record China)、AIチップ市場は今後数年で500億米ドル(約7兆円)に達することが見込まれています(Bloomberg)。HBM容量の増大によるシステムレベル性能向上の要求が続くメモリ支配のAI市場成長を維持するために、巨大資本が支える先進パッケージの開発と供給能力の増強が関心を集めています。また、先端、非先端デバイスのMix & MatchによるSoC開発の効率化に活路を見出すチップレットインテグレーションは民生機器から車載、メディカル、社会インフラ用途に至る多様な市場でイノベーション創出への寄与が期待されており、商流の早期確立が求められています。一方、最近の性急な市場の期待と開発進展の現実との乖離が目立つ技術分野も散見され、対処療法的な技術がパッケージ技術開発への信頼を損なうことを危惧する声が一部の識者から聞こえています。
本セミナーでは、これらの現状認識に基づき、これまでの先進パッケージ開発の経緯を整理し、半導体デバイスチップの三次元集積化プロセス、Fan-Out型パッケージの基礎を再訪しながら、今後の開発動向と市場動向を展望します。
得られる知識
- 半導体デバイスパッケージの役割の変化の推移
- 配線階層の境界領域の開発視点
- 三次元集積化の基幹プロセスの基礎と現状の課題
- 今さら聞けない先進パッケージプロセス構築の留意点
受講対象
- 最近の先進パッケージの動向に関心のある装置、材料メーカー関連企業の方
- 半導体パッケージへ業態転換をお考えのLCDパネル、基板メーカー関連企業の方
- 半導体パッケージに関心のある若手から中堅のプロセス技術者
担当講師
神奈川工科大学 工学部 電気電子情報工学科・非常勤講師 江澤 弘和 氏
[プロフィール]
1985年(株)東芝入社。半導体プロセス開発部門で先端CMOSデバイスの微細化に対応したFEOL、BEOLのメタライゼーションプロセスの開発、量産技術確立、歩留り向上、半導体製品の品質事故対応に従事。並行して、2000年以降はロジックデバイスのLow-k CPI低減を皮切りに、Micro-Bump、RDL、TSV、WLPなどの中間領域技術による半導体製品の新たな価値創出を推進。2011年からメモリ事業部。2017年から東芝メモリ(株)(現、キオクシア)。2019年に定年退職。2020年に伴走コンサルティングを中心とする個人事業ezCoworksを開業。
セミナープログラム(予定)
1.半導体パッケージの役割の変化
1.1 デバイスチップ性能向上とシステムレベル性能向上
1.2 中間領域プロセス技術の進展による価値創出
1.3 CoWoS, SoW-XとWafer Scale Integration
1.4 チップレットインテグレーション市場の開拓
2.三次元集積化プロセスの基礎
2.1 ロジックとメモリのチップ積層SoCデバイス (RDL, Micro-bumping, Mass reflow積層の導入)
2.2 TSVプロセス (CISカメラモジュール, メモリチップ積層からBSPDNへ拡張)
2.3 Hybrid-Bonding (Wafer level/Chip on Wafer bonding, Polymer bonding)
2.4 Si/有機インタポーザー, Siブリッジ (インテグレーション規模の拡大)
2.5 RDL微細化と多層化(SAPからダマシンプロセスの導入へ)
3.Fan-Out(FO)型パッケージの基礎
3.1 市場浸透の現状
3.2 FOプロセスの留意点
3.3 モールド樹脂材料の選択
3.4 3D FOインテグレーション(TMIプロセス選択肢の拡大)
4.Panel Level Process(PLP)高品位化
4.1 モールド樹脂起因の基板反り問題
4.2 マスクレス露光によるレティクルサイズ制約からの解放
4.3 PLP装置開発
5.最近の話題と課題
5.1 どうするGlassインタポ-ザ/基板, どうなるCo-Packaged Optics
5.2 HBM支配構造は続くのか?
5.3 今後の市場動向を見る視点
6.Q&A
公開セミナーの次回開催予定
開催日
2025/9/26(金)10:30~16:30
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。
受講料
一般受講:本体50,000円+税5,000円
E-Mail案内登録価格:本体47,500円+税4,750円
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で55,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須/1名あたり定価半額の27,500円)
テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合:受講料44,000円( E-Mail案内登録価格 42,020円)
定価:本体40,000円+税4,000円
E-Mail案内登録価格:本体38,200円+税3,820円
※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※※お申込みフォームのメッセージ欄に【テレワーク応援キャンペーン希望】とご記載ください。
※他の割引は併用できません。
★【S&T会員登録】と【E-Mail案内登録】の詳細についてはこちらをご参照ください。
※E-Mail案内登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「E-Mail案内登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みからE-mail案内登録価格が適用されます。
配布資料
- PDFテキスト(印刷不可・複製不可)
※開催2日前を目安に、主催者サイトのマイページよりダウンロード可となります。
備考
※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
お申し込み方法
★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。