半導体洗浄の技術動向と表面欠陥・汚染の低減技術【提携セミナー】

　　セミナー　　半導体/電子　　半導体・電子部品実装　　半導体洗浄の技術動向と表面欠陥・汚染の低減技術【提携セミナー】

開催日時	2025/7/9（水）10:30~16:15
担当講師	清家善之氏長谷川浩史氏藤原義彦氏
開催場所	Zoomによるオンライン受講
定員	30名
受講費	60,500円(税込)

★ パーティクル付着のメカニズムから除去技術を徹底解説！

★ 品質向上に向けた物理、化学、超音波、プラズマ洗浄の技術動向を詳解！

半導体洗浄の技術動向と表面欠陥・汚染の低減技術

【提携セミナー】

主催：株式会社技術情報協会

講座内容

・近年、半導体デバイスの進化はすさまじいものがあります。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーでは、半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧説明します。基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる数年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。講義後、質疑応答の時間以外にもメールにてご質問にもお答え致します。
・超音波洗浄機は非常に有効な洗浄ツールですが、環境による影響を受けやすいので、扱いがやや難しいというデメリットがあります。特に半導体洗浄では微細なパーティクルを効率良く除去する必要がありますので、環境についてはよりシビアに考える必要があります。本講座では、超音波洗浄機の能力を最大限に生かすには、どのようなポイントに注意すればよいかという点を学んでいただけると考えています。
・先端半導体におけるパッケージ技術の動向とそこに適用されるプラズマ技術の紹介を致します。その中で元々は前工程で多く活用されてきたプラズマ技術が半導体後工程においても、どのような可能性があるのかを知って頂けたらと思います。

習得できる知識

・先端半導体におけるパッケージ技術に応用されるプラズマ技術に関する知見
・超音波洗浄機の種類や周波数等の特徴を知ることができる
・超音波洗浄機の仕組みや特徴、洗浄メカニズムを理解することができる
・超音波洗浄における洗浄メカニズムを考慮した最適条件について検討することができる
・半導体デバイスの物理的な洗浄およびそれに関する工学的な基礎知識

担当講師

１．愛知工業大学　工学部　電気学科　教授　博士（工学）　清家善之氏
２．(株)カイジョー　超音波機器事業部　開発技術部　部長　長谷川浩史氏
３．パナソニックコネクト(株)　回路形成プロセス事業部　プラズマソリューションSBU　開発部　工法開発課
兼任　プロダクト開発センター　実証・プロセス開発部　ボンダー実証・プロセス開発課　マネージャー　藤原義彦氏

セミナープログラム（予定）

【10:30-12:00】

１．半導体デバイス製造工程の物理的ウエット洗浄技術

愛知工業大学　工学部　電気学科　教授　博士（工学）　清家善之氏

1.半導体デバイス製造プロセスにおける物理的洗浄の必要性
1.1 化学的洗浄(RCA洗浄)の基礎
1.2 物理的洗浄の必要性
1.3 パーティクルのカウント方法
1.4 物理洗浄に求められるもの

2.物理的ウエット洗浄
2.1 パーティクルの付着理論
2.2 水流を用いた洗浄原理
2.3 高圧スプレー洗浄
2.4 二流体スプレー洗浄
2.5 メガソニック洗浄
2.5.1 メガソニックスプレー
2.5.2 石英振動体型メガソニック洗浄方法
2.6 ブラシ洗浄
2.7 次世代の物理的洗浄技術
2.8 プロセスに合ったツールの使い分け
2.9 純水スプレー洗浄時の静電気障害

【質疑応答】

【13:00-14:30】

２．半導体の微細パーティクルを効率的に除去する超音波技術

(株)カイジョー　超音波機器事業部　開発技術部　部長　長谷川浩史氏

1.超音波洗浄とは
1.1 超音波の特徴
1.2 超音波洗浄の役割

2.超音波洗浄の種類と特徴
2.1 バッチ洗浄用の超音波洗浄機
2.2 枚葉洗浄用の超音波洗浄機
2.3 その他の超音波洗浄機
2.4 超音波洗浄機の仕組み

3.超音波洗浄のメカニズム
3.1 キャビテーションとは
3.2 キャビテーションの発生原理

4.超音波洗浄における条件
4.1 超音波の周波数と洗浄性
4.2 液の条件と洗浄性
4.3 理想的な条件

5.超音波洗浄の最新トレンド

【質疑応答】

【14:45-16:15】

３．先端半導体におけるプラズマプロセス技術