ナノインプリントリソグラフィの基礎と応用技術動向【提携セミナー】
| 開催日時 | 2026/12/11（金） 13:00～16:30 |
|---|---|
| 担当講師 | 谷口 淳 氏 |
| 開催場所 | 【会場受講】東京・品川区大井町 きゅりあん 4階 第1特別講習室 |
| 定員 | - |
| 受講費 | 通常申込：定価：本体45,000円＋税4,500円 E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円 |
ナノインプリントリソグラフィの基礎と応用技術動向
ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）の基礎と実用例を解説
【提携セミナー】
主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社
受講可能な形式：【会場受講】
本セミナーでは、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を解説する。また、ロールトゥロール（RTR）NILについても説明し、反射防止構造フィルムの製造例などについても言及する。さらに、最新のメタレンズやAR/VRグラスへの応用についても紹介する。
セミナー趣旨
ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。NILは、1995年にプリンストン大学のChou先生が提唱してから30年以上たち、製品化も進んでいる。
本講演では、NILの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、新製品等のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品等のヒントが得られると考えている。さらに、最新のメタレンズやAR/VRグラスへの応用についても紹介する。
得られる知識
- ナノインプリントリソグラフィ（NIL）の基礎
- NILにおける金型作製技術、転写樹脂選定、応用事例
- ロールトゥロール（RTR）NILによる転写例
- 反射防止構造フィルムの量産例とその応用
- 新技術動向、メタレンズ、AR/VRグラス等
担当講師
東京理科大学 先進工学部 電子システム工学科・教授 谷口 淳 氏
【その他 活動等】
応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 運営委員長
セミナープログラム（予定）
１．はじめに
1.1 ナノインプリントリソグラフィの歴史
1.2 ナノインプリントリソグラフィの現状
２．ナノインプリントの基礎
2.1 ナノインプリントの要素技術（金型、樹脂、装置等）
2.2 ナノインプリントの各種方式
2.3 ナノインプリントの位置づけ
３．ナノインプリントの応用技術
3.1 ナノトランスファープロセス
3.2 金属パターン転写
４．ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
4.1 RTR NILの基礎
4.2 反射防止構造（モスアイ構造）
4.3 モスアイ構造の作製方法
4.4 モスアイ構造の転写方法
4.5 モスアイ構造の応用例
５．将来展望
5.1 メタレンズ
5.2 AR/MR グラス
6．まとめ
□ 質疑応答 □
公開セミナーの次回開催予定
開催日
2026年12月11日（金） 13:00～16:30
開催場所
【会場受講】東京・品川区大井町 きゅりあん 4階 第1特別講習室
受講料
一般受講：本体45,000円＋税4,500円
E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で49,500円 (2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額24,750円)
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配布資料
製本テキスト(会場にて直接お渡しします)
備考
※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
お申し込み方法
★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。
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