高感度化フォトレジスト材料の設計術

≪分子設計の基礎とEUV用レジスト材料などの最新研究動向≫

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説！
EUV用レジスト材料など更なる高感度化が求められる新規レジスト材料の開発指針とは・・・

セミナー趣旨

フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。また、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、最新のレジスト材料としてEＵＶレジスト材料の開発方法について解説する。

得られる知識

• レジスト材料の合成方法、評価方法、開発方法

受講対象

• 新しいレジスト材料の開発に関する研究

担当講師

関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授　工藤 宏人　氏

【専門】高分子合成化学、有機合成化学、機能性高分子材料の開発

セミナープログラム（予定）

１．レジスト材料（基礎）
1.1　原理
1.2　合成例
1.3　最新の化学増幅型

２．ポジ型レジスト材料（基礎）
2.1 合成方法
2.2 評価方法

３．ネガ型レジスト材料（基礎）
3.1 合成方法
3.2 評価方法

４．高分子レジスト材料と低分子レジスト（基礎と応用）
4.1 合成方法
4.2 評価方法

５．EUVレジスト材料の評価方法と開発方法の実例（基礎と応用）

６．最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)（応用と発展）

□ 質疑応答 □

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2023年5月19日（金）  13:00～16:30

開催場所

Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能)

受講料

一般受講：本体40,000円＋税4,000円
E-Mail案内登録価格：本体38,000円＋税3,800円

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で44,000円 (2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額の22,000円)

【テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
1名申込みの場合：受講料( 定価：35,200円／E-Mail案内登録価格 33,440円 )

定価：本体32,000円＋税3,200円
E-Mail案内登録価格：本体30,400円＋税3,040円

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