半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、

および技術トレンドと最先端技術

■半導体ウェット洗浄の必要性、洗浄の方法／原理、技術トレンド■

■乾燥の技術トレンド、次世代半導体の洗浄課題、先端洗浄・乾燥技術■

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

受講可能な形式：【ライブ配信】のみ

★品質／歩留まりを向上するための洗浄技術へ！
★半導体ウェット洗浄装置・薬液・洗浄原理から、先端半導体に要求される洗浄技術、最新の洗浄技術まで！

セミナー趣旨

半導体製造において、品質／歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。

まずは半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題に触れていきます。最先端の半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由について解説します。また洗浄後は、濡れたウエハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があるため、乾燥も重要なプロセスです。

本セミナーでは、「洗浄」だけでなく「乾燥」にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

＜得られる知識・技術＞

• 半導体製造におけるウェット洗浄の役割を基礎から理解できる。
• 半導体ウェット洗浄に使用される装置や薬液種類や洗浄原理が理解できる。
• 先端半導体に要求される洗浄技術の課題や最新の洗浄技術が理解できる。

担当講師

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
R&D戦略統轄部 アライアンス推進部 先端プロセス開発課　塚原 隆太　氏

[経歴]
2019年~(株)SCREENセミコンダクターソリューションズ入社
[活動内容]
枚葉式洗浄装置を使ったデモ評価や乾燥技術の開発
[WebSite]
https://www.screen.co.jp/spe/

セミナープログラム（予定）

＜プログラム＞

１．半導体ウェット洗浄の必要性
1.1 半導体製造フローと洗浄の位置づけ
1.2 洗浄装置の役割
1.3 洗浄の除去対象

２．半導体ウェット洗浄の方法/原理
2.1 洗浄装置の種類
2.2 異物の除去
2.3 異物の付着抑制

３．洗浄の技術トレンド
3.1 洗浄と半導体の歴史
3.2 従来の洗浄技術

４．乾燥の技術トレンド
4.1 乾燥と半導体の歴史
4.2 従来の乾燥技術

５．次世代半導体の洗浄課題
5.1 半導体デバイスのトレンド
5.2 洗浄の技術的課題
5.3 洗浄装置に求められる機能

６．先端洗浄・乾燥技術
6.1 最新の洗浄技術
6.2 最新の乾燥技術
6.3 シミュレーション技術

７．まとめ

　□質疑応答□

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【ライブ配信】 2026年7月23日（木）  13:00～16:30

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

定価：本体45,000円＋税4,500円

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で49,500円（2名ともE-Mail案内登録必須​／１名あたり定価半額の24,750円）

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合：受講料39,600円（E-Mail案内登録価格 37,840円）

定価：本体36,000円＋税3,600円　E-Mail案内登録価格：本体34,400円＋税3,440円

※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※お申込みフォームのメッセージ欄に【テレワーク応援キャンペーン希望】とご記載ください。
※他の割引は併用できません。

※お申込後、セミナー主催者（サイエンステクノロジー社）がS&T会員登録をさせて頂きます。
（S&T会員登録はセミナー受講に必要な登録であり、E-mail案内登録とは異なります。）

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配布資料

PDFデータ(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、主催者サイトのマイページよりダウンロード可となります。

オンライン配信のご案内

※【Live配信（zoom使用）対応セミナー】についてはこちらをご参照ください

備考

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

お申し込み方法

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