☆過去20年間に渡る技術動向調査を基に、基礎的な素子動作原理から最先端技術、

現在の諸課題について解説します。

シリコン系光導波路と

フォトニクスデバイス集積技術の開発

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆セミナー趣旨

シリコンフォトニクス技術と呼ばれる，シリコン系光導波路素子によるモノリシック／ハイブリッド集積や実装技術は，基礎的な研究フェーズから，産業展開へと続く実用化フェーズへ移行しており，市場規模は著しい成長を続けている．しかしながら，更に高密度・高性能な光集積回路を実現に向けて，解決すべき技術課題は依然として多く存在するため，新たなブレークスルーが求められる．

本セミナーでは過去20年間に渡る技術動向調査を基にした，基礎的な素子動作原理から最先端技術について解説を行った上で，現在の諸課題について議論を行う．

◆習得できる知識

• 光導波構造の基礎，各種材料を活用した場合の長所／短所の比較
• シリコンフォトニクスデバイスの基本動作原理，研究開発の現状
• モノリシック／ハイブリッドフォトニクス集積技術，ファブレス化の動向

◆受講対象

• 半導体光素子の設計やプロセス加工業務に携わって数年程度の若手技術者や新人の方。または、新たに本分野の研究開発業務に携わる予定のある方。

◆必要な前提知識

• 特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

◆キーワード

半導体光素子、光集積回路、光導波路、シリコンフォトニクス、セミナー、講演、研修

担当講師

国立研究開発法人 産業技術総合研究所　プラットフォームフォトニクス研究センター
主任研究員 博士（工学）高 磊 氏

<ご専門>
光集積回路，機能性光材料

＜ご略歴＞
早稲田大学先進理工学研究科物理学及応用物理学専攻修了，博士（工学）
日本電信電話株式会社 研究員，カリフォルニア州立大学バークレー校 博士研究員（日本学術振興会 海外特別研究員）を経て，国立研究開発法人 産業技術総合研究所入所．
現在，同プラットフォームフォトニクス研究センター シリコンフォトニクス研究チーム所属，主任研究員．

セミナープログラム（予定）

１．光導波構造の基礎
1.1 1次元の光閉込めと光伝搬
1.2 2次元（3層スラブ導波路）の固有値方程式と導波モード形成
1.3 高次モードとカットオフ
1.4 ガラス，化合物半導体，シリコン系導波路の比較

２．シリコン系光導波路デバイス
2.1 パッシブ光デバイス（カプラ，フィルタ，入出力光結合など）
2.2 光変調器
2.3 受光器
2.4 レーザー光源

３．フォトニクス集積技術
3.1 ムーアの法則と集積フォトニクスデバイスの活用
3.2 CMOS互換モノリシック集積技術
3.3 多彩な異種材料を活用したハイブリッド集積技術
3.4 光チップレット，2.5/3次元実装
3.5 ファブレス化，ファウンドリーサービスの現状

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【LIVE配信】2024/5/21（火）13:00～16:30
【アーカイブ配信受講】5/22（水）～5/29（水）

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

非会員： 49,500円 （本体価格：45,000円）
会員： 46,200円 （本体価格：42,000円）

会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円（税込）から
★1名で申込の場合、46,200円（税込）へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円（2人目無料）です。

※LIVE配信とアーカイブ配信（見逃し配信）両方の視聴を希望される場合
会員価格で1名につき49,500円（税込）、2名同時申込で59,400円（税込）になります。
メッセージ欄に「LIVEとアーカイブ両方視聴」と明記してください。

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• 資料付（紙媒体での配布）※データの配布はありません。
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