最新CMP技術 徹底解説【提携セミナー】

開催日時 2021/10/27(水)10:30~16:30
担当講師

礒部 晶 氏

開催場所

【Zoomを使ったLIVE配信セミナー】

定員
受講費 非会員: 55,000円(税込)
会員: 49,500円(税込)

☆☆CMPに携わって30年の講師が、

装置、材料、プロセスなどの基礎から最新動向を徹底解説します!

 

最新 CMP 技術 徹底解説

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

CMPという当初ゲテモノ扱いされていたプロセスが半導体製造に導入されて四半世紀以上が経過した。

いまではなくてはならないキープロセスとなっており、その工程数、応用範囲はますます広がっている。

最新のFinFET等のトランジスタ工程や3D NANDに用いられる工程を初めとして、適用工程毎の特徴を紹介し、用いられる装置、材料について解説する。

さらに、平坦化のメカニズムや材料除去のメカニズムについてもモデルを紹介する。

 

◆ 受講対象・レベル

  • CMPに関わる初級~中級技術者
  • 同営業マーケティング担当者
  • CMPを基礎から勉強したい方

 

◆ 必要な予備知識

特に必要ありません、基礎から解説いたします

 

◆ 習得できる知識

装置、材料、プロセスなどについて基礎から学べるので、CMP関連の開発や新規事業計画に役立ちます。また、営業では顧客との会話の内容の理解が深まります。

 

 

担当講師

(株)ISTL 代表取締役社長 博士(工学)

礒部 晶 氏

 

セミナープログラム(予定)

1.最新デバイス動向とCMP
1-1 AIとIoT
1-2 トランジスタ構造の変遷
1-3 メモリデバイスの分類と動向
1-4 パッケージ技術への応用
1-5 最近のCMP関連学会における注目トピックス

 

2.CMP装置
2-1 半導体の製造方法とCMPの歴史
2-2 CMP装置の構成
2-3 ヘッド構造
2-4 終点検出技術
2-5 APC

 

3.CMPによる平坦化
3-1 CMPによる平坦化工程の分類
3-2 平坦化のメカニズム

 

4.CMP消耗材料
4-1 各種スラリーの基礎
4-2 砥粒の変遷
4-3 添加剤の役割
4-4 スラリーの評価方法
4-5 研磨パッドの基礎
4-6 研磨パッドの評価方法
4-7 コンディショナーの役割

 

5.CMPの応用
5-1 CuCMPの詳細
5-2 最新のトランジスタCMP工程
5-3 各種基板CMP
5-4 CMPのプロセス評価方法

 

6.CMPの材料除去メカニズム
6-1 研磨メカニズムモデルの歴史
6-2 新しいモデル~Feret径モデル
6-3 Feret径モデルの数値検証
6-4 Feret径モデルに基づく開発のヒント

 

7.まとめ

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2021年10月27日(水) 10:30~16:30

 

開催場所

【Zoomを使ったLIVE配信セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます

 

受講料

非会員: 55,000円(税込)
会員: 49,500円(税込)

 

※会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で 55,000円(税込)から
★1名で申込の場合、49,500円(税込)へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計 55,000円(2人目無料)です。

 

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

 

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備考

  • 資料付
  • セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
    ご自宅への送付を希望の方はコメント欄にご住所などをご記入ください。
    無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

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