ミストCVD技術の開発と今後の可能性 (R&D)【提携セミナー】

ミストCVD法製膜技術

ミストCVD技術の開発と今後の可能性 (R&D)【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

おすすめのセミナー情報

開催日時 2022/7/6(水)13:00~17:00
担当講師

川原村 敏幸 氏

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

定員 30名 
受講費 非会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)
会員: 38,500円 (本体価格:35,000円)

ミストCVD技術の開発と今後の可能性

 

《ミスト流を利用した注目の機能膜作製手法の現在地と今後の展望》

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

◆セミナー趣旨

大気圧下で大面積に亘り高品質な機能膜を形成するための技術として開発してきたミストCVDに関して、経緯、歴史、作製膜の特性、デバイス、ミストCVDに関する物理、次世代へ向けた開発の方向性等、詳しく説明します。

 

◆習得できる知識

  • 機能膜作製プロセス
  • 大気圧・非真空プロセス
  • 溶液プロセス
  • ミストCVD
  • 電子デバイス(ディスプレイ・センサー・スイッチング素子・発光素子・量子素子)
  • コーティング(不動態膜・透明導電膜)
  • 組成制御
  • 反応工学

 

◆受講対象

  • ナノテクノロジー研究者
  • 光・電子素子開発者
    その他、ミストCVDに興味のある方のご参加をお待ちしております。

 

◆キーワード

ミスト,CVD,気液混相流,薄膜,デバイス,パワー,半導体,研修,講座,セミナー

 

担当講師

高知工科大学 システム工学群 教授 博士(工学) 川原村 敏幸 氏

 

【その他 活動など】
CVD研究会 幹事
応用物理学会 プログラム委員
薄膜材料デバイス研究会 実行委員(助成金担当)

 

セミナープログラム(予定)

第1部 ミストCVD技術の開発初期

 

1.緒言
1.1 自己紹介
1.2 高知工科大学について
1.3 高知工科大学 総合研究所について

 

2.機能膜作製技術の現状とこれからの開発ポイント
2.1 どういった物に利用されているのか
2.2 それらを作製するシステムの大きさやコストについて
2.3 省エネプロセスの必要性とそれが達成されない理由
2.4 大気圧下で対象とする機能膜を形成する為のポイント

 

3.ミストを利用した機能膜形成技術「ミストCVD」の特徴
3.1 ミスト法とは
3.2 従来の成膜手法に対するミストCVD法の立場
3.3 超音波噴霧を利用した機能膜形成技術の歴史

 

4.原料供給手段に超音波噴霧を利用する利点
4.1 各種液滴の発生法
4.2 一般環境下で薄膜を形成するために適した液滴発生法とは

 

5.ミスト流を用いた機能膜作製システムの装置群
5.1 ミスト流を用いた機能膜作製システム
5.2 原料供給器
5.3 成膜反応装置周囲の基本システム

 

6.ミストCVDの物理1
6.1 均質膜を作製する為の3つの手段
6.2 液滴のライデンフロスト状態

 

第2部 ミストCVD技術の応用と発展

 

7.ファインチャネル(FC)システムvsホットウォール(HW)システム
7.1 解析構造・条件
7.2 結果

 

8.ミストCVDで作製出来る機能膜
8.1 これまでに形成できた薄膜種
8.2 酸化亜鉛系(ZnO)
8.3 酸化ガリウム系(Ga2O3)
8.4 酸化アルミニウム(AlOx)
8.5 酸化インジウムガリウム亜鉛(IGZO)
8.6 有機膜
8.7 層状硫化モリブデン(MoS2)
8.8 その他

 

9.ミストCVDで作製したデバイス
9.1 大気圧手法により形成された酸化物TFTの現状
9.2 ミストCVDによるIGZO TFTの作製
9.3 特性および最適化
9.4 その他のデバイス(IGZO, Ga2O3, SnO2 MESFET, Organic SC等)

 

10.ミストCVDによる量子素子の作製とその特徴
10.1 大気圧下で量子井戸が形成できる理由
10.2 作製した量子井戸の特徴

 

11.ミストCVDの物理2
11.1 ミスト同士は衝突しない
11.2 複合反応の抑制
11.3 組成制御技術

 

12.ミストCVDの物理3
12.1 反応炉内でのミスト液滴の挙動
12.3 ミスト流を利用した成膜プロセスにおける反応メカニズム

 

13.まとめ
13.1 ミストCVDとこれからのミストCVD
13.2 ミストCVDの他なる可能性

 

— 質疑応答 —

 

スケジュール
13:00~14:10 講義
14:10~14:20 休憩
14:20~15:30 講義
15:30~15:40 休憩
15:40~16:50 講義
16:50~17:00 質疑応答
※進行によって、多少前後する可能性がございます。
※質問は随時チャット形式で受け付けます。音声での質問も可能です。

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2022年07月06日(水) 13:00~17:00

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

 

受講料

非会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)
会員: 38,500円 (本体価格:35,000円)

 

会員の方もしくは申込時に会員(案内)登録していただいた方は、受講料が49,500円(税込)から

  • 1名で申込の場合、38,500円(税込)に割引になります。
  • 2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円(2人目無料)で受講できます。

 

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

 

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すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。

 

LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

 

備考

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったWEB配信セミナーとなります。

 

  • セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

 

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