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コーティング膜および機能性材料の付着・密着性評価と剥離対策(セミナー)
2024/11/29(金)13:00-16:30
お問い合わせ
03-6206-4966
開催日時 | 2022/7/6(水)13:00~17:00 |
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担当講師 | 川原村 敏幸 氏 |
開催場所 | 【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。 |
定員 | 30名 |
受講費 | 非会員: 49,500円 (本体価格:45,000円) 会員: 38,500円 (本体価格:35,000円) |
《ミスト流を利用した注目の機能膜作製手法の現在地と今後の展望》
【提携セミナー】
主催:株式会社R&D支援センター
◆セミナー趣旨
大気圧下で大面積に亘り高品質な機能膜を形成するための技術として開発してきたミストCVDに関して、経緯、歴史、作製膜の特性、デバイス、ミストCVDに関する物理、次世代へ向けた開発の方向性等、詳しく説明します。
◆習得できる知識
◆受講対象
◆キーワード
ミスト,CVD,気液混相流,薄膜,デバイス,パワー,半導体,研修,講座,セミナー
高知工科大学 システム工学群 教授 博士(工学) 川原村 敏幸 氏
【その他 活動など】
CVD研究会 幹事
応用物理学会 プログラム委員
薄膜材料デバイス研究会 実行委員(助成金担当)
第1部 ミストCVD技術の開発初期
1.緒言
1.1 自己紹介
1.2 高知工科大学について
1.3 高知工科大学 総合研究所について
2.機能膜作製技術の現状とこれからの開発ポイント
2.1 どういった物に利用されているのか
2.2 それらを作製するシステムの大きさやコストについて
2.3 省エネプロセスの必要性とそれが達成されない理由
2.4 大気圧下で対象とする機能膜を形成する為のポイント
3.ミストを利用した機能膜形成技術「ミストCVD」の特徴
3.1 ミスト法とは
3.2 従来の成膜手法に対するミストCVD法の立場
3.3 超音波噴霧を利用した機能膜形成技術の歴史
4.原料供給手段に超音波噴霧を利用する利点
4.1 各種液滴の発生法
4.2 一般環境下で薄膜を形成するために適した液滴発生法とは
5.ミスト流を用いた機能膜作製システムの装置群
5.1 ミスト流を用いた機能膜作製システム
5.2 原料供給器
5.3 成膜反応装置周囲の基本システム
6.ミストCVDの物理1
6.1 均質膜を作製する為の3つの手段
6.2 液滴のライデンフロスト状態
第2部 ミストCVD技術の応用と発展
7.ファインチャネル(FC)システムvsホットウォール(HW)システム
7.1 解析構造・条件
7.2 結果
8.ミストCVDで作製出来る機能膜
8.1 これまでに形成できた薄膜種
8.2 酸化亜鉛系(ZnO)
8.3 酸化ガリウム系(Ga2O3)
8.4 酸化アルミニウム(AlOx)
8.5 酸化インジウムガリウム亜鉛(IGZO)
8.6 有機膜
8.7 層状硫化モリブデン(MoS2)
8.8 その他
9.ミストCVDで作製したデバイス
9.1 大気圧手法により形成された酸化物TFTの現状
9.2 ミストCVDによるIGZO TFTの作製
9.3 特性および最適化
9.4 その他のデバイス(IGZO, Ga2O3, SnO2 MESFET, Organic SC等)
10.ミストCVDによる量子素子の作製とその特徴
10.1 大気圧下で量子井戸が形成できる理由
10.2 作製した量子井戸の特徴
11.ミストCVDの物理2
11.1 ミスト同士は衝突しない
11.2 複合反応の抑制
11.3 組成制御技術
12.ミストCVDの物理3
12.1 反応炉内でのミスト液滴の挙動
12.3 ミスト流を利用した成膜プロセスにおける反応メカニズム
13.まとめ
13.1 ミストCVDとこれからのミストCVD
13.2 ミストCVDの他なる可能性
— 質疑応答 —
スケジュール
13:00~14:10 講義
14:10~14:20 休憩
14:20~15:30 講義
15:30~15:40 休憩
15:40~16:50 講義
16:50~17:00 質疑応答
※進行によって、多少前後する可能性がございます。
※質問は随時チャット形式で受け付けます。音声での質問も可能です。
2022年07月06日(水) 13:00~17:00
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。
非会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)
会員: 38,500円 (本体価格:35,000円)
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