開催日時	未定
担当講師	渡邊 健夫 氏
開催場所	未定
定員	-
受講費	未定

★EUVリソグラフィ技術の現状、課題から今後の日本の半導体復興に必要な項目まで解説！

 

EUVリソグラフィーの基礎から

最新技術開発の現状、

課題と今後の半導体微細加工技術の展開

 

《EUVL技術開発のキーポイントとは？》

 

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

 

---

 

◆セミナー趣旨

2019年よりEUVリソグラフィー（EUVL）は7 nm+世代の半導体量産技術として適用が開始された。この状況まで来るのに、EUVLの黎明期を含め約35年掛かって実現した。兵庫県立大学は国内大学が保有している中で最大のニュースバル放射光施設を有しており、これまでASET、SELETE,EUVA、EIDECの４つ国家プロジェクトの参画し、また、これまで数多くの国内外の企業との共同研究を通じてEUVL技術開発に貢献してきた。講演ではEUVL技術の黎明期からその技術の基礎について、また、現在の技術状況と課題、そして、今後の展開について解説する。さらに、日本の半導体復興に必要な項目について理解を深める。

 

黎明期のEUVL技術開発の紹介により、より深くEUVL技術開発のキーポイントの理解を深めていただきます。また、EUVL技術の現状および課題については、EUV露光装置（EUV光源を含み）に加えて、EUVレジスト、EUVマスク、EUVペリクルなどEUVL全般に亘って基盤技術について解説する。

 

◆習得できる知識

• EUVリソグラフィ技術の基礎、現状、課題。今後の展開
• また、今後の日本の半導体復興に向けた提言

 

◆受講対象

• 製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方、並びに学生：院生

 

◆必要な前提知識

• 特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

 

◆キーワード

EUV、リソグラフィー、EUVL、レジスト、マスク、ペリクル、セミナー、講演

 

担当講師

兵庫県公立大学法人 兵庫県立大学 名誉教授・特任教授
社会価値創造機構 理学博士 渡邊 健夫 氏

 

セミナープログラム（予定）

1. はじめに

 

2. 半導体の動向

 

3. EUVリソグラフィーとは

 

4. EUVリソグラフィーの黎明期

 

5. EUVリソグラフィーの必要性

 

6. EUVLの技術課題

 

7. EUVL用露光機（EUV光源を含む）

 

8. EUVレジスト
1) 化学増幅系レジスト、非科学増幅系レジスト、金属レジスト、他
評価系
2) ホモジニティ、レジスト膜の層分離など

 

9. EUVマスク
1) 構造、多層膜、吸収体、High-kおよびLow-k材料
2) マスク評価系、など

 

10. EUVペリクル
1) 材料
2) 評価系

 

11. 日本の半導体の将来に向けて

 

12. まとめ

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

未定

 

 

開催場所

未定

 

 

受講料

未定

 

 

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