ALD（原子層堆積）/ALE（原子層エッチング）技術の基礎と応用 ( R&D )【提携セミナー】
おすすめのセミナー情報
| 開催日時 | 【LIVE配信】2024/6/11（火） 10:00～16:00 , 【アーカイブ配信】6/12～6/26 （何度でも受講可能） |
|---|---|
| 担当講師 | 浦岡 行治 氏 |
| 開催場所 | 【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。 |
| 定員 | 30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。 |
| 受講費 | 非会員： 55,000円 （本体価格：50,000円） 会員： 49,500円 （本体価格：45,000円） |
ALD技術の基礎を最先端半導体デバイスの応用事例を用いて、徹底的に解説！
ALD（原子層堆積）/
ALE（原子層エッチング）技術の基礎と応用
【提携セミナー】
主催：株式会社R&D支援センター
AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD（原子層堆積）/ALE（原子層エッチング）技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。
◆ 得られる知識
- ALD/ALE技術の基礎
- 薄膜形成技術の基礎
- 薄膜加工技術の基礎
- 薄膜を使った半導体デバイスの動作原理
- 薄膜デバイスの信頼性評価方法
◆ 対象
- 半導体プロセス・デバイスの初学者
- ALD技術の導入を検討している技術者
- 本テーマに興味のある方ならどなたでも受講可能。
担当講師
奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究領域 情報機能素子科学研究室 教授 博士（工学）
浦岡 行治 氏
セミナープログラム（予定）
１．薄膜形成技術
1.1 薄膜作製/加工の基礎
1.2 薄膜の評価手法
1.2.1 電気的評価
1.2.2 化学的分析手法
1.2.3 光学的評価手法
２．ALD/ALE技術の基礎
2.1 ALD技術の原理
2.2 ALD薄膜の特長
2.3 ALD技術の歴史
2.4 ALD装置の仕組み
2.5 ALD技術の材料
2.6 ALE技術の基礎
2.7 ALE技術の課題
３．ALD/ALE技術の応用
3.1 パワーデバイスへの応用
3.2 酸化物薄膜トランジスへの応用
3.3 MOS LSIへの応用
3.4 太陽電池への応用
４．ALD/ALE技術の将来
4.1 ALD/ALE技術の課題
4.2 ALD/ALE技術の展望
公開セミナーの次回開催予定
開催日
【LIVE配信】2024/6/11（火） 10:00～16:00
【アーカイブ配信】6/12～6/26 （何度でも受講可能）
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。
受講料
非会員： 55,000円 （本体価格：50,000円）
会員： 49,500円 （本体価格：45,000円）
会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で55,000円（税込）から
★1名で申込の場合、49,500円（税込）へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円（2人目無料）です。
★3名以上同時申込は1名につき27,500円（税込）です。
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備考
- 資料付【PDF配布】
- セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
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