レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策【提携セミナー】

塗料・塗膜の基礎と耐候性技術

レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策【提携セミナー】

このセミナーは終了しました。次回の開催は未定です。

おすすめのセミナー情報

開催日時 【LIVE配信】2024/5/30(木) 10:30~16:30 , 【アーカイブ配信】6/3~6/14
担当講師

遠藤 政孝 氏

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

定員 30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
受講費 非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)

★レジストの基礎から、レジスト・EUVレジスト微細加工用材料の

トラブル対策について課題をふまえて解説します!

 

レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎とトラブル対策

 

【提携セミナー】

主催:株式会社R&D支援センター

 


 

◆セミナー趣旨

メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。リソグラフィは現在先端の量産で用いられているArF液浸、ダブル/マルチパターニングに加えて、待ち望まれていたEUVが用いられている。レジスト・微細加工用材料はこのようなリソグラフィの変革に対応して進展し続けている。

 

本講演では、リソグラフィの基礎を解説した後、デバイスの微細化を支えるレジストの基礎をEUVレジスト(化学増幅型EUVレジスト、EUVメタルレジスト)の詳細を含めて述べる。レジスト・微細加工用材料のトラブル対策をその要求特性、課題をふまえて解説する。EUVレジストの課題と対策についても述べる。最後に現在の3nmロジックノード以降のロードマップを解説し、今後のレジスト・微細加工用材料の技術展望、市場動向についてまとめる。

 

◆習得できる知識

  • レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎
  • リソグラフィの基礎
  • レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料のトラブル対策
  • レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の最新技術・ビジネス動向

 

◆キーワード

レジスト、EUV、微細、加工、パターン、形成、液浸、リソグラフィ、トラブル、欠陥、対策

 

担当講師

大阪大学 産業科学研究所 招聘教授 工学博士 遠藤 政孝 氏

 

<専門>
半導体リソグラフィ、レジスト、微細加工用材料、高分子化学

<略歴>
1983年松下電器産業株式会社入社。以来同社半導体研究センター、パナソニック株式会社セミコンダクター社プロセス開発センターにて、半導体リソグラフィ、レジスト、微細加工用材料の開発に従事。
2009年から大阪大学産業科学研究所にて、レジスト、EUVレジストの研究開発に従事。

 

セミナープログラム(予定)

1.リソグラフィの基礎
1-1.露光
1-2.照明方法
(1)輪帯照明
1-3.マスク
(1)位相シフトマスク
(2)光近接効果補正(OPC)
(3)マスクエラーファクター(MEF)

 

2.レジストの基礎
2-1.溶解阻害型レジスト
(1)g線レジスト
(2)i線レジスト
(3)レジスト組成材料の詳細とキーポイント
2-2.化学増幅型レジスト
(1)KrFレジスト
(2)ArFレジスト
(3)レジスト組成材料の詳細とキーポイント
2-3.EUVレジスト
(1)化学増幅型EUVレジスト
(2)EUVメタルレジスト

 

3.レジスト・微細加工用材料のトラブル対策
3-1.レジストパターン形成不良への対応
(1)パターン倒れ
(2)パターン密着性不良
(3)パターン形状不良
(4)チップ内のパターン均一性不良
3-2.化学増幅型レジストのトラブル対策
(1)レジスト材料の安定性
(2)パターン形成時の基板からの影響
(3)パターン形成時の大気からの影響
3-3.ArF液浸レジストのトラブル対策
3-4.ダブルパターニング、マルチパターニングのトラブル対策
(1)リソーエッチ(LE)プロセス用材料
(2)セルフアラインド(SA)プロセス用材料
3-5.EUVレジストの課題と対策
(1)感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
(2)ランダム欠陥(Stochastic Effects)
3-6.自己組織化(DSA)リソグラフィのトラブル対策
(1)グラフォエピタキシー用材料
(2)ケミカルエピタキシー用材料
3-7.ナノインプリントリソグラフィのトラブル対策

 

4.最新のロードマップとレジスト・微細加工用材料の技術展望、市場動向

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

【LIVE配信】2024/5/30(木) 10:30~16:30

【アーカイブ配信】6/3~6/14

 

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

 

受講料

非会員: 55,000円 (本体価格:50,000円)
会員: 49,500円 (本体価格:45,000円)

 

会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で55,000円(税込)から

  • 1名で申込の場合、49,500円(税込)へ割引になります。
  • 2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円(2人目無料)です。

 

※上記金額はライブ配信、アーカイブ配信いずれかの受講料です。ライブ配信、アーカイブ配信両方視聴される場合は、会員価格で1名につき55,000円(税込)、2名同時申込で66,000円(税込)になります。

 

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

 

※R&D支援センターの会員登録とは?
ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。
すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。

 

LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

 

備考

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったWEB配信セミナーです。

 

  • セミナー資料は郵送します。職場以外での受け取りを希望される場合はご住所をお知らせ下さい。
    セミナー資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

★【LIVE配信】、【アーカイブ配信】、【LIVEとアーカイブ両方視聴】のいずれかから、ご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。

 

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