半導体メモリ技術の基礎と各種動向

《デバイス動作原理・構造・製造プロセスフロー、技術課題および市場動向》

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

★増大一途のデータ量および半導体微細化の厳しい実状をふまえ、半導体メモリ技術は今後どのように進展するのか？
　各種メモリの特徴・製造プロセスや市場動向・国際学会にみる研究動向等をふまえ、現状・課題から今後の行方まで、多面的かつ平易に解説します！

セミナーポイント

コンピューティング技術や情報通信技術の発展に伴い，派生するデータ量は増大の一途であり，半導体メモリの重要性は益々高まっています。一方，半導体メモリの製造技術を牽引してきた従来のスケーリング（微細化）は，製造プロセス，デバイス特性あるいはコストの面から極めて難しくなってきました。

これを打破するため，新技術・新材料の導入によってこれまでのスケーリングトレンドを延命する，あるいは新たなスキームに切り替えることによって更なる進展を図る等，精力的な開発が続いています。

本講義では，各種半導体メモリデバイスの構造・特徴・製造プロセスフロー等の基本事項、技術課題，国際学会に見る最新の研究開発動向および市場動向などを，多面的かつ平易に解説していきます。

◆受講後、習得できること

半導体メモリデバイスの基礎知識，製造方法，最新技術トレンド，将来の技術課題など

◆受講対象者

• 半導体メモリデバイス基本知識の習得を目指す方
• 学会などにおける半導体メモリ技術のトレンドを知りたい方

担当講師

（株）日立ハイテク　ナノテクノロジソリューション事業統括本部 プロセスシステム製品本部 プロセス東京技術センタ　松崎 望 氏

セミナープログラム（予定）

1.はじめに ～メモリとは何か？～
1) メモリの役割
2) 半導体メモリのあゆみとスケーリング

2.半導体メモリの基礎知識と技術・市場動向
1）様々なメモリと位置付け
a) 揮発性と不揮発性
b) メモリの種類
c) コンピューティングとメモリとの関係
2) DRAM
a) 動作原理と特徴/構造及び材料・デバイス技術
b) 製造プロセスフロー例
c) スケーリングの追求と技術課題および学会動向（新材料，新構造）
d) 市場動向
3) NANDフラッシュ
a) 動作原理と特徴/構造及び材料・デバイス技術
b) スケーリングの限界と3D構造への転換
c) 製造プロセスフロー例
d) さらなる集積度向上と技術課題および学会動向（新材料・新構造・新動作原理）
e) 市場動向
4) NORフラッシュ・ロジック混載フラッシュ
a) 動作原理と特徴・構造及び材料・デバイス技術
b) 技術課題と学会動向
c) 市場動向
5) その他の半導体メモリと最新動向
a) MRAM（磁気抵抗メモリ）
b) PCM（相変化メモリ）
c) FeRAM（強誘電体メモリ）
d) ReRAM（抵抗変化メモリ）
e) 市場動向と各デバイス技術の将来性

3. おわりに～さらなる飛躍へ～
1) 本日のまとめ
a) DRAM：迫るスケーリング限界と今後の方向性・ブレイクスルー技術
b) NAND：新材料／新プロセスの動きと積層数増加トレンドの行方
c) 次世代メモリ：応用分野，将来の見通し
など
2) 増えるデータ量とそれを支えるメモリ技術

4. 質疑応答

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2025年7月22日(火)　13:00-16:30　＊途中、小休憩を挟みます。

開催場所

Zoomによるオンラインセミナー

受講料

【オンライン受講（見逃し視聴なし）】：1名 45,100円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき34,100円

【オンライン受講（見逃し視聴あり）】：1名 50,600円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき39,600円

＊学校法人割引：学生、教員のご参加は受講料50％割引。

●録音・録画行為は固くお断り致します。

オンライン配信のご案内

★　Zoomによるオンライン配信

については、こちらをご参照ください

備考

●配布資料はPDFなどのデータで配布いたします。ダウンロード方法などはメールでご案内いたします。

• 配布資料に関するご案内は、開催1週前～前日を目安にご連絡いたします。
• 準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申込みをお願いいたします。
  （土、日、祝日は営業日としてカウントしません。）
• セミナー資料の再配布は対応できかねます。必ず期限内にダウンロードください。

●当日、可能な範囲でご質問にお答えします。（全ての質問にお答えできない可能性もございます。何卒ご了承ください。）
●本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止いたします。

お申し込み方法

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