機能性有機フッ素化合物（PFAS、フッ素ポリマー等）の

分解、再資源化方法

《一般的な有機化合物の分解方法から

有機フッ素化合物の分解・再資源化手法について》

【提携セミナー】

主催：株式会社情報機構

●環境影響および資源問題で対応が求められるPFASの無害化・資源循環に向けてお話させていただきます。
　加えて、様々な化学反応手法とその研究動向について解説！

◆はじめに

炭素原子とフッ素原子から形成される有機フッ素化合物は耐熱性、耐薬品性、界面活性、電気絶縁性等の優れた性質を持ち、産業界にとって欠かすことのできない重要な化学物質である。その種類は低分子化合物から高分子化合物まで多岐にわたる。分子量が数百程度の化合物は界面活性剤や表面処理剤に、数万以上の化合物、すなわちフッ素ポリマーはパッキン等の汎用品はもちろんのこと、イオン交換膜、光ファイバー、レジスト等の先端材料として利用されている。このように高い機能性を持つ一方で、いわゆるPFAS類が持つ環境残留性や生体蓄積性、廃棄物の分解処理が困難といった負の側面が近年になって顕在化しつつある。また、最近では定義が拡大してフッ素ポリマーまでPFAS類に含まれる状況になっている。本講演では一般的な有機化合物の分解方法を概説した後、このような有機フッ素化合物の分解・再資源化方法の研究動向について報告したい。

◆受講後、習得できること

一般的な有機化合物の分解方法に関する基礎知識、有機フッ素化合物、PFAS類のおかれている状況、分解方法、再資源化方法

◆受講対象者

フッ素ポリマーやフッ素系表面処理剤等を製品の製造工程等で使用している企業関係者（表面処理、電子材料製造、化学産業）

◆必要な予備知識や事前に目を通しておくと理解が深まる文献、サイトなど：

高校卒業レベルの化学の知識

◆ご講演中のキーワード：

PFAS、フッ素ポリマー、分解、無機化、再資源化

担当講師

神奈川大学　理学部　教授　堀　久男　氏

※希望者は講師との名刺交換が可能です。

■略歴：
慶應義塾大学大学院理工学研究科応用化学専攻後期博士課程修了(工学博士)。その後、株式会社東芝　研究開発センター研究員、通商産業省工業技術院　資源環境技術総合研究所主任研究官、マックス・プランク石炭科学研究所客員研究員（科学技術庁長期在外研究員併任）、産業技術総合研究所環境管理技術研究部門研究グループ長を経て、2010年4月から神奈川大学理学部教授、現在に至る。

■専門および得意な分野・研究：
環境負荷物質の分解・無害化、リサイクル
産業界や我々の生活に必要である一方で、環境影響が懸念され、廃棄物の処理方法が十分に確立されていない化学物質（有機フッ素化合物等）について、分解・無害化、さらには再資源化する方法の開発に取り組んでいる。最近は希少金属であるレニウム等のリサイクルにも取り組んでいる。

■本テーマ関連学協会でのご活動：
一般社団法人日本環境化学会第33回環境化学学術賞受賞(2024年)

セミナープログラム（予定）

１．有機化合物を分解するさまざまな方法
1.1　紫外線照射 (UV)
1.2　促進酸化法 (AOP)
1.3　フェントン反応
1.4　ペルオキソ二硫酸イオン
1.5　ペルフルオロ一硫酸イオン
1.6　超音波照射
1.7　亜臨界水・超臨界水
1.8　メカノケミカル反応
1.9　その他

２.有機フッ素化合物、PFASとは何か
2.1 定義の変遷
2.2 国際規制の動向

３．有機フッ素化合物を穏和な条件でフッ化物イオンまで分解・無害化するさまざまな化学反応手法
3.1　Legacy (古典的な)PFAS類
①紫外線照射、光触媒
②ペルオキソ二硫酸イオン＋光照射
③鉄イオン光触媒
④鉄粉＋亜臨界水
⑤ペルオキソ二硫酸イオン＋温水
⑥酸素ガス＋亜臨界水
⑦ペルオキソ二硫酸イオン＋超音波照射
3.2　フッ素ポリマー（高分子量PFAS）類
①フッ素系イオン交換膜の亜臨界水分解
②ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、エチレン・テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、
VDF-ヘキサフルオロプロペン(HFP)共重合体、フッ素エラストマー(FKM)、
テトラフルオロエチレン・HFP共重合体(FEP)の分解方法
*酸素ガス＋超臨界水反応
*過酸化水素＋亜臨界水反応
*過マンガン酸カリウム＋亜臨界水反応
*アルカリ試薬＋亜臨界水反応
*人工蛍石の合成
3.3　先端低分子量PFAS類
①フッ素系イオン液体の亜臨界水分解
②フッ素テロマー化合物の亜臨界水分解
③電気化学用PFAS類の亜臨界水分解
④中性PFAS類（フッ素系シランカップリング剤）の亜臨界水分解

4．代替材料の開発状況
4.1　フッ素ポリマー製造に使われるフッ素界面活性剤（重合助剤）の動向
4.2　撥水・撥油加工の動向。注意すべきこと

5.　近年報告されているユニークな分解技術の紹介

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2026年4月13日(月)　13:00-17:00　＊途中、小休憩を挟みます。

開催場所

会場開催：[東京・大井町]きゅりあん 5階第1講習室

受講料

【会場受講】：1名46,200円(税込（消費税10％）、資料付)
＊1社2名以上同時申込の場合、1名につき35,200円

＊学校法人割引；学生、教員のご参加は受講料50％割引。

備考

会場（対面）セミナーご受講に関する各種案内（必ずご確認の上、お申込みください。）

●配布資料は、印刷したものを当日会場にてお渡しいたします。

●当日会場でセミナー費用等の現金支払はできません。
●昼食やお飲み物の提供もございませんので、各自ご用意いただけましたら幸いです。
●講義中の携帯電話・スマートフォンでの通話や音を発する操作はご遠慮ください。
●講義中のパソコン使用は、講義の支障や他の方のご迷惑となる場合がありますので、極力お控えください。場合により、使用をお断りすることがございますので、予めご了承ください（パソコン実習講座を除きます。）

●講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売などは禁止いたします。また、申込者以外の受講・動画視聴は固くお断りいたします（代理受講ご希望の際は、開催前日までに弊社までご連絡お願いします）。

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。