光変調器の開発動向と材料設計、デバイスの作製技術【提携セミナー】

　　セミナー　　技術分野共通　　光変調器の開発動向と材料設計、デバイスの作製技術【提携セミナー】

開催日時	2026/6/25（木）10:30~16:15
担当講師	川西哲也氏村井俊哉氏大友明氏
開催場所	Zoomを利用したLive配信
定員	30名
受講費	60,500（消費税込・資料付き）

★基本原理、各種方式の特徴、これまでの研究動向、

そして薄膜ニオブ酸リチウム、有機EOポリマーなど新しい材料を用いたデバイス開発の状況

光変調器の開発動向と材料設計、デバイスの作製技術

【提携セミナー】

主催：株式会社技術情報協会

講座内容

【第1部】
本講座では、振幅・位相変調などの基本原理、多値変調方式と通信容量の関係を理解した上で、直接変調および外部変調、電界吸収型変調器、電気光学変調器など各種デバイス技術について解説する。さらに、コヒーレント通信や光電融合、テラヘルツ応用など、次世代通信システムに向けた展開についても紹介し、光変調技術の全体像を俯瞰的に理解することを目的とする。
【第2部】
これまで、シリコンフォトニクス技術は小型で低コストな光集積回路の実現に大きく貢献してきましたが、従来のシリコン変調器はキャリア分散効果に依存しているため、変調速度（帯域）と効率、そして光損失の間に厳しいトレードオフが存在し、性能の限界が顕在化しつつあります。この課題を打破する鍵として注目されているのが、薄膜ニオブ酸リチウム（TFLN）の異種材料集積です。TFLNは極めて高い電気光学係数を持ち、キャリア吸収がないため、高速かつ低消費電力な光変調器を実現する理想的な材料です。しかし、異なる材料であるTFLNをシリコンフォトニクス基板上へ高密度かつ低コストで実装するには、従来のウエハ接合技術ではチップ面積の無駄や製造プロセスの制約が生じるという課題がありました。
本講座では、この実装課題を解決するブレイクスルーとなる「マイクロ転写プリント（μ-TP）技術」を用いた画期的なアプローチについて詳説します。特に、シリコン導波路との間で光を極めて低損失で受け渡す「層間カプラ構造」の最適設計や、これまで機械的安定性の観点から困難とされていた長尺（最大1.1 cm）のTFLNクーポンを安定してプリントするための独自のプロセス技術について、具体的な実証データとともに解説します。
【第3部】
有機EOポリマーを用いた光変調素子は、近赤外の光通信波長帯だけでなく、可視光においても高速高効率な変調が可能であり、これを用いた光フェーズドアレイは、近赤外光から可視光までの様々な光操作応用への展開が期待されている。本講演では、有機EOポリマーの性能向上のための基礎知識として基本特性や設計指針、評価技術などについて論じるとともに、小型超高速光変調素子やテラヘルツ無線信号－光信号直接変換素子、超高速光フェーズドアレイなどの応用例を紹介し、デバイス化の指針を示す。