物理学で理解するEUVリソグラフィの

基礎・応用・課題と将来展望

《半導体製造を支える最先端微細加工技術》

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆セミナー趣旨

生成AIの登場により、半導体製品に対する需要は堅調に高まっています。集積回路中のトランジスタ数の増加速度を予測する「ムーアの法則」の終焉が指摘されるようになってから久しいですが、昨年には高NA-EUV露光装置が半導体デバイスメーカーに納品され、半導体の高密度化のトレンドは今後も続くと見られます。

本講座では、微細加工技術のキモとも言えるフォトリソグラフィについて、従来技術および先端EUVリソグラフィについて、物理学的な視点で基礎を解説します。EUV露光装置およびEUV光とレジストとの相互作用について特に詳しく解説します。加えて、EUVリソグラフィの応用事例や課題、課題解決に向けた最近の取り組みについて紹介します。

◆習得できる知識

• EUVリソグラフィの要素技術（EUV光源系、光学系、マスク等）や関連材料（レジスト等）の基礎を理解できる。
• EUVリソグラフィが抱える課題と課題解決に向けた取り組み例を理解できる。

◆受講対象

• 半導体産業に関わる若手技術者の方。
• 新たにEUVリソグラフィ分野への参入を検討中の企業の方。

◆必要な前提知識

特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

◆キーワード

EUVリソグラフィ,レジスト,フォトリソグラフィ,半導体,講演,セミナー,研修

担当講師

東京大学大学院新領域創成科学研究科　特任助教　博士（理学）　藤原　弘和　氏

【専門】
物性物理学、電子デバイス、半導体プロセス

【略歴】
2019年4月 – 2019年9月　東芝メモリ株式会社 メモリ技術研究所
2019年 10月 – 2021年3月　キオクシア株式会社　メモリ技術研究所
2021年4月 – 2023年12月　東京大学　物性研究所　特任研究員
2024年1月 –　東京大学大学院新領域創成科学研究科　特任助教

セミナープログラム（予定）

1.微細加工技術
1-1.トランジスタの変遷
1-2.微細加工技術の基礎
1-3.微細加工パターンの評価手法

2.フォトリソグラフィの基礎
2-1.フォトリソグラフィ技術の原理
2-2.フォトリソグラフィの歴史
2-3.フォトリソグラフィの特徴
2-4.レジスト材料

3.EUVリソグラフィの基礎
3-1.装置構成
3-1-1.EUV光の発生原理
3-1-2.光学系
3-1-3.レジストとEUV光の相互作用
3-2.EUV露光システムの特徴
3-3.EUVリソグラフィ材料
3-3-1.EUVレジスト
3-3-2.EUVレジスト周辺材料
3-3-3.EUVフォトマスク
3-3-4.EUVペリクル

4.EUVリソグラフィの応用事例
4-1.GAAトランジスタ

5.EUVリソグラフィの課題と展望
5-1.最新のEUVリソグラフィのパフォーマンス
5-2.EUV光源開発の取り組み紹介
5-3.EUVレジスト開発の取り組みの紹介
5-4.レジスト検査技術開発の取り組みの紹介

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2025年05月30日（金） 13:00～16:00

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

非会員： 49,500円 （本体価格：45,000円）
会員： 46,200円 （本体価格：42,000円）

会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円（税込）から
★1名で申込の場合、46,200円（税込）へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円（2人目無料）です。

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

※R&D支援センターの会員登録とは？
ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。
すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。

LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

備考

• 資料付（PDFデータでの配布）
  ※紙媒体での配布はございません。
  ※資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。