★EUVリソグラフィ技術の現状、課題から今後の日本の半導体復興に必要な項目まで解説！

EUVリソグラフィーの基礎から

最新技術開発の現状、

課題と今後の半導体微細加工技術の展開

《EUVL技術開発のキーポイントとは？》

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

◆セミナー趣旨

2019年よりEUVリソグラフィー（EUVL）は7 nm+世代の半導体量産技術として適用が開始された。この状況まで来るのに、EUVLの黎明期を含め約35年掛かって実現した。兵庫県立大学は国内大学が保有している中で最大のニュースバル放射光施設を有しており、これまでASET、SELETE,EUVA、EIDECの４つ国家プロジェクトの参画し、また、これまで数多くの国内外の企業との共同研究を通じてEUVL技術開発に貢献してきた。講演ではEUVL技術の黎明期からその技術の基礎について、また、現在の技術状況と課題、そして、今後の展開について解説する。さらに、日本の半導体復興に必要な項目について理解を深める。

黎明期のEUVL技術開発の紹介により、より深くEUVL技術開発のキーポイントの理解を深めていただきます。また、EUVL技術の現状および課題については、EUV露光装置（EUV光源を含み）に加えて、EUVレジスト、EUVマスク、EUVペリクルなどEUVL全般に亘って基盤技術について解説する。

◆習得できる知識

• EUVリソグラフィ技術の基礎、現状、課題。今後の展開
• また、今後の日本の半導体復興に向けた提言

◆受講対象

• 製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方、並びに学生：院生

◆必要な前提知識

• 特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

◆キーワード

EUV、リソグラフィー、EUVL、レジスト、マスク、ペリクル、セミナー、講演

担当講師

兵庫県公立大学法人 兵庫県立大学 名誉教授・特任教授
社会価値創造機構 理学博士 渡邊 健夫 氏

セミナープログラム（予定）

1. はじめに

2. 半導体の動向

3. EUVリソグラフィーとは

4. EUVリソグラフィーの黎明期

5. EUVリソグラフィーの必要性

6. EUVLの技術課題

7. EUVL用露光機（EUV光源を含む）

8. EUVレジスト
1) 化学増幅系レジスト、非科学増幅系レジスト、金属レジスト、他
評価系
2) ホモジニティ、レジスト膜の層分離など

9. EUVマスク
1) 構造、多層膜、吸収体、High-kおよびLow-k材料
2) マスク評価系、など

10. EUVペリクル
1) 材料
2) 評価系

11. 日本の半導体の将来に向けて

12. まとめ

公開セミナーの次回開催予定

開催日

未定

開催場所

未定

受講料

未定

※セミナー主催者の会員登録をご希望の方は、申込みフォームのメッセージ本文欄に「R&D支援センター会員登録希望」と記載してください。ご登録いただくと、今回のお申込みから会員受講料が適用されます。

※R&D支援センターの会員登録とは？
ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。
すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。

LIVE配信のご案内

こちらをご参照ください

備考

• 資料付（製本テキスト）※データの配布はありません。
  ※ご自宅への送付を希望の方はメッセージ欄にご記入ください。
  ご指定が無い場合はお申込み時の住所へ郵送いたします。

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。