ウェットエッチングの基礎と形状コントロール

及びトラブル対策とノウハウ

セミナー修了後、受講者のみご覧いただける1週間限定のアーカイブ配信をいたします。

【提携セミナー】

主催：株式会社R&D支援センター

ウェットエッチングは工業的にも歴史が古く、半導体デバイス、高周波プリント基板、液晶デバイスなど、さまざまな先端分野において主力の加工技術となっています。ウェットエッチングは量産性、コスト性、設備の簡易さに優れているほか、エッチングと同時にウェット洗浄を行える特長を有しています。近年では、ウェットエッチングによるアンダーカット形状の高精度化が求められています。本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、高精度化やトラブル対策について解説します。さらに、表面エネルギー解析や応力・歪み解析による界面設計についても取り上げます。日頃の技術開発やトラブル相談にも個別に対応いたします。

◆　習得できる知識

• ウェットエッチングの基礎メカニズム
• コントロール要因
• 形状制御技術

◆　受講対象・レベル

ウェットエッチング業務に携わる方、ならびに電子デバイス、プリント基板、薬剤、装置関連企業の技術者の方々

◆必要な予備知識

• 化学・物理の基礎知識

◆　キーワード

ウェット,エッチング,,プリント基板,半導体,オンライン,WEBセミナー

担当講師

アドヒージョン（株）　代表取締役社長　博士（工学）　河合 晃　氏

http://www.adhesion.co.jp
国立大学法人　長岡技術科学大学　名誉教授
【略歴】
三菱電機（株）ULSI研究所にて10年間勤務し、電子デバイス開発・試作・量産移管・歩留り・工場管理の業務に従事し、半導体デバイスの高精度な微細加工、ウェット/ドライエッチング、コーティングおよび表面処理技術開発に従事した。その後、長岡技術科学大学にて勤務し、エッチング技術、機能性薄膜、表面界面制御、ナノデバイスなどの先端分野の研究を実施している。各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。現在、長岡技術科学大学　名誉教授、ならびに、技術コンサルティング会社として、アドヒージョン（株）代表取締役社長を務める。著書40件、原著論文166報、国際学会124件、国内学会212件、特許多数、受賞多数、講演会270回以上、日本接着学会評議員、応用物理学会会員、産学連携・技術コンサルティング実績350件以上。

セミナープログラム（予定）

１．ウェットエッチングの基礎
1-1　加工技術としての位置づけ
1-1-1　産業応用（半導体、液晶、プリント基板、５G応用、ゲノム）
1-1-2　設計値とシフト量（アンダーカット）
1-2　基本プロセスフロー（前処理、マスク作製、エッチング、マスク除去）
1-3　プロセス支配要因（濡れ、律速、反応速度）
1-4　エッチング機構
1-4-1　超純水（機能水、帯電防止、酸化防止、水素水）
1-4-2　エッチング液（被加工膜対応、界面活性剤）
1-4-3　電位-ｐH図（プールベイ図）
1-4-2　等方性エッチング（エッチファクター、Si、Cu、Al）
1-4-3　結晶異方性エッチング（結晶方位依存性、Si単結晶）
1-5　エッチングマスク
1-5-1　マスク剤の選定（レジスト膜、無機膜）
1-5-2　マスク剤の最適化（マスク形成と高精度化）
1-5-3　マスクの形状劣化（熱だれ、転写特性）
1-5-4　マスク内の応力分布と付着強度（応力集中と緩和理論）
1-5-5　エッチング液の浸透（CLSM解析）
1-6　被加工表面の最適化（表面被膜、汚染、欠陥の影響）
1-6-1　被加工膜の材質依存性（不働態膜、WBL、CH系汚染）
1-6-2　表面汚染（大気中酸化、液中酸化）
1-6-3　表面前処理（疎水化および親水化）
1-7　処理装置
1-7-1　液循環
1-7-2　ディップ
1-7-3　シャワー
1-7-4　スピンエッチ
1-7-5　フィルタリング

２．アンダーカット形状の最適化
2-1　支配要因
2-1-1　界面濡れ性
2-2-2　応力集中
2-2-3　液循環
2-2-4　マスク耐性
2-2　形状コントロール（エッチングラインの高精度化）
2-3　高精度形状計測
2-3-1　断面SEM
2-3-2　定在波法
2-3-3　光干渉法
2-3-4　X線CT

３．トラブル要因と解決方法（最短の解決のために）
3-1　マスクパターンの剥離メカニズム
3-1-1　付着・ぬれエネルギーWa（ドライ中）
3-1-2　拡張・浸透エネルギーS（ウェット中）
3-1-3　円モデル
3-2　エッチング液の濡れ不良（ピンニング不良）
3-3　エッチング開始点の遅れ（コンタクトラインのVF変形）
3-4　ホールパターンの気泡詰まり（界面活性剤）
3-5　エッチング表面の荒れ（気泡、異物）
3-6　金属汚染（RCA洗浄）
3-7　レジスト除去
3-7-1　ウェット方式
3-7-2　ドライ方式
3-7-3　物理除去
3.8　再付着防止
3-8-1　DLVO理論
3-8-2　ゼータ電位
3.9　乾燥痕
3-9-1　マランゴニー対流
3-9-2　IPA蒸気乾燥

４．環境対策
4-1　廃液処理
4-2　排ガス・ミスト処理

５．質疑応答
（日頃の技術開発およびトラブル相談に個別に応じます）

参考資料

• 表面エネルギーによる濡れ・付着性解析（測定方法）

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2025年10月03日（金） 10:30～16:30

開催場所

【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。

受講料

非会員：  55,000円 （本体価格：50,000円）
会員：  49,500円 （本体価格：45,000円）

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