ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用

ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）の基礎、要素技術、実用例を解説

【提携セミナー】

主催：サイエンス＆テクノロジー株式会社

受講可能な形式：【会場受講】

本セミナーでは、ＮＩＬの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を解説する。また、ロールトゥロール（RTR）NILやメタサーフェスおよびAR/MRグラスでのNILの応用状況についても概説する。

セミナー趣旨

ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。また、最近は半導体露光装置への適用も期待されており、メタサーフェスやAR/VRグラスへの応用も進んでいる。このように、ＮＩＬは最先端の高付加価値の製品をリーゾナブルな価格で作製することができる。

本講演では、ＮＩＬの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、今後の新製品のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品のヒントが得られると考えている。また、近年活発化しているメタサーフェスおよびAR/MRグラス等の状況も概説する。

得られる知識

• ナノインプリントリソグラフィ（NIL）の基礎
• NILにおける金型作製技術
• NILにおける転写樹脂
• NILにおける応用例
• ロールトゥロール（RTR）NILによる転写例
• 反射防止構造フィルムの量産例とその応用
• リソグラフィ用途の動向
• 新技術動向、メタレンズ、AR/VRグラス 等

担当講師

東京理科大学 先進工学部 電子システム工学科・教授　谷口 淳 氏

【その他 活動等】
応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 運営委員長

セミナープログラム（予定）

１．はじめに
1.1 ナノインプリントリソグラフィの現状
1.2 ナノインプリントリソグラフィの実用例

２．ナノインプリントの基礎
2.1 ナノインプリントの歴史
2.2 ナノインプリントの要素技術
2.3 ナノインプリントの各種方式
2.4 ナノインプリントの位置づけ

３．ナノインプリントの応用技術
3.1 ナノトランスファープロセス
3.2 金属パターン転写

４．ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
4.1 RTR NILの基礎
4.2 反射防止構造（モスアイ構造）
4.3 モスアイ構造の作製方法
4.4 モスアイ構造の転写方法
4.5 モスアイ構造の応用例

5.　将来展望
5.1 メタサーフェス
5.2 AR/MR グラス

6．まとめ

□ 質疑応答 □

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2024/7/29（月）13:00～16:30

開催場所

【会場受講】東京・品川区大井町 きゅりあん 5階 第1講習室

受講料

一般受講：本体45,000円＋税4,500円
E-Mail案内登録価格：本体42,700円＋税4,270円

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で49,500円 (2名ともE-Mail案内登録必須／１名あたり定価半額24,750円)

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配布資料

製本テキスト(会場にて直接お渡しします)

備考

※講義の録画・録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

お申し込み方法

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