フォトレジスト材料の基礎と開発・設計指針【提携セミナー】

リソグラフィー技術_フォトレジストの評価方法

フォトレジスト材料の基礎と開発・設計指針【提携セミナー】

開催日時 2021/7/9(金) 12:30-16:30
担当講師

工藤 宏人 氏

開催場所

Zoomによるオンラインセミナー

定員 -
受講費 【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】:41,800円
【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】:46,200円

★最新型のレジスト材料動向もふまえた材料開発のポイントについて講義!

 

フォトレジスト材料の
基礎と開発・設計指針

《合成・評価法からEUV用レジスト材料開発まで》

 

【提携セミナー】

主催:株式会社情報機構

 


 

フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化をしてきた。本セミナーでは、その進化の変遷に沿って、高分子や低分子を用いたレジスト材料開発のポイントについて解説する。
さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。また、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、特に最新のレジスト材料であるEUVレジスト材料の開発方法について詳しく解説する。

 

 受講対象
UV硬化樹脂材料の開発、ナノインプリント材料の開発、レジスト材料の開発に携わっている方

 

◆ この講座を受講して習得できること

レジスト材料の評価方法と開発方法

 

担当講師

関西大学 化学生命工学部 教授 博士(工学)  工藤 宏人 氏

 

セミナープログラム(予定)

1.レジスト材料について
a) 開発の歴史(ムーアの法則について)
b) 原理(レジスト材料として求められる性能について)
c) 開発例
・高分子を用いたレジスト材料
・低分子を用いたレジスト材料
d) 化学増幅型システムの利点と弱点

 

2.ポジ型レジスト材料
a) 原理
b) 合成例
:KrF・ArF・EB・EUVレジスト材料

 

3.ネガ型レジスト材料
a) 原理
b) 合成例
:KrF・ArF・EB・EUVレジスト材料

 

4.分子レジスト材料
a) 原理
b) 合成例
:KrF・ArF・EB・EUVレジスト材料

 

5.レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
a) レジスト特性の評価方法
・溶解性、成膜性、耐熱性
・レジスト膜の安定性
・レジスト感度特性
・耐エッチング性
b) レジストの分子設計方法
:KrF・ArF・EB・EUVレジスト材料
・高感度化設計
・高解像度化設計
・低ラフネス化設計

 

6.最新型レジスト材料の開発方法
・化学増幅型レジストと非化学増幅型レジスト

 

7.EUV用レジスト材料の開発方法
a) EUV用レジスト材料の評価方法
b) EUV用メタルレジスト
c) EUV用分子レジスト
d) EUV用非化学増幅型レジスト

 

 <質疑応答>

 

公開セミナーの次回開催予定

開催日

2021年7月9日(金) 12:30-16:30

 

開催場所

【Live受講】 Live配信セミナー(リアルタイム配信) ※会社・自宅にいながら学習可能です※

 

オンライン配信のご案内

★ Zoomによるオンライン配信

★ 見逃し視聴

については、こちらをご参照ください

 

受講料

【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】
41,800円(税込、資料付) *1社2名以上同時申込の場合、30,800円

【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】
46,200円(税込、資料付) *1社2名以上同時申込の場合、35,200円

 

*学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引

 

配布資料

配布資料はPDF等のデータで送付予定です。受取方法はメールでご案内致します。
(開催1週前~前日までには送付致します)。
準備の都合上、開催1営業日前の12:00までにお申し込みをお願い致します。
(土、日、祝日は営業日としてカウント致しません。)

 

備考

当日、可能な範囲で質疑応答も対応致します。
(全ての質問にお答えできない可能性もございますので、予めご容赦ください。)

本講座で使用する資料や配信動画は著作物であり、無断での録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止致します。

 

お申し込み方法

★下のセミナー参加申込ボタンより、必要事項をご記入の上お申し込みください。

★【オンラインセミナー(見逃し視聴なし)】、【オンラインセミナー(見逃し視聴あり)】のいずれかから、ご希望される受講形態をメッセージ欄に明記してください。

 

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